高纯铟靶材

芯片制造对溅射靶材金属纯度的要求较高，通常要达到99.9995%以上，而平板显示器、太阳能电池分别要求达到99.999%、99.995%以上，若溅射靶材的杂质含量过高，形成的薄膜就无法达到使用所要求的电性能，将严重影响薄膜的性能。目前，靶材制造行业在高纯度的靶材市场，呈现寡头垄断格局，主要由几家美日大企业把持着，如日本的三井矿业、日矿金属、日本东曹、住友化学、日本爱发科，以及美国霍尼韦尔、普莱克斯等。根据UVTM公告数据估算，日矿金属是有名的靶材供应商，靶材销售额约占市场的30%，霍尼韦尔在并购JohnsonMattey、整合高纯铝、钛等原材料生产厂后，占到市约20%的份额。随着中国经济的发展和工业化水平的不断提升。特别是近些年半导体及相关产业的快速发展，我国国内也涌现出了一批靶材企业，如江丰电子、有研新材、隆华节能、阿石创、广州尤特新材等。