hakuto 离子刻蚀机运用于

西南某高校在 PDMS 软刻蚀用母模板研究中有采用到伯东 Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE . ? Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 技术规格: 真空腔 1 set, 主体不锈钢,水冷 基片尺寸 1 set, 4”/6”? Stage, 直接冷却, 离子源 ? 8cm 考夫曼离子源 KDC75 离子束入射角 0 Degree～± 90 Degree 极限真空 ≦1x10-4 Pa 刻蚀性能 一致性: ≤±5% across 4” 该 Hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 的核心构件离子源是配伯东公司代理美国考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的考夫曼离子源 KDC 75 伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC75 技术参数： 离子源型号 离子源 KDC 75 Discharge DC 热离子 离子束流 >250 mA 离子动能 100-1200 V 栅极直径 7.5 cm Φ 离子束 聚焦, 平行, 散射 流量 2-15 sccm 通气 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 典型压力 < 0.5m Torr 长度 20.1 cm 直径 14 cm 中和器 灯丝 采用伯东 Hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 刻蚀加工软刻蚀母模板具有操作步骤简单, 制备周期短的特点, 是一种有效的制备软刻蚀母模板的设备 若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 : 上海伯东 : 罗先生 台湾伯东 : 王小姐 T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049 M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958 ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.tw www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw 伯东版权所有, 翻拷必究!