Hakuto 离子蚀刻机 20I

某印刷电路板制造商采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 应用于刻蚀印刷电路板局部表面去除污染物. Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 技术参数 Φ4 inch X 12片 基片尺寸 Φ4 inch X 12片 Φ5 inch X 10片 Φ6 inch X 8片 均匀性 ±5% 硅片刻蚀率 20 nm/min 样品台 直接冷却,水冷 离子源 Φ20cm 考夫曼离子源 Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-J 搭配伯东公司代理美国考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的射频离子源 RFICP220 伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数: 离子源型号 RFICP 220 Discharge RFICP 射频 离子束流 >800 mA 离子动能 100-1200 V 栅极直径 20 cm Φ 离子束 聚焦, 平行, 散射 流量 10-40 sccm 通气 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 典型压力 < 0.5m Torr 长度 30 cm 直径 41 cm 中和器 LFN 2000 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 有效针对所需区域进行蚀刻, 并避免印刷电路板全面性蚀刻产生的导线暴露于空气中发生的短路异常现象. 若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 : 上海伯东 : 罗先生 台湾伯东 : 王小姐 T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049 M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958 ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.tw www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw 伯东版权所有, 翻拷必究!