真空箱式气氛炉

 

一、箱式真空气氛炉简介

箱式炉、箱式真空炉、箱式气氛炉、箱式真空气氛炉为我公司根据客户需求专业定制的热处理设备，主要用于：氮化硅镀膜、陶瓷电容器（MLCC）、金刚石、硬质合金等真空气氛烧结及金属退火等工艺。本设备具有：自动化程度高、温度均匀、升降温速度快等特点，是理想的科研及生产设备。

二、箱式真空气氛炉技术指标（全部指标可定制）

1、外型形式：方箱式，可移动式加热器

2、最高工作温度：900℃ 

3、常用工作温度：600-800℃

4、真空室有效尺寸：600（L）*600（D）*150（H）

5、加热元件：优质电阻丝

6、最大加热功率：10KW，保温功率5KW

7、真空室材质：SUS310S耐热不锈钢

8、产品尺寸：Φ500mm*50mm铜线卷

9、料盒：共两层料盒，SUS310S不锈钢+石英板结构

10、气路：氩气、氮气两路气体

11、流量计：采用浮子流量计控制

12、真空系统：旋片真空泵

13、极限真空度：1Pa(7.5*10-3托)

14、最大充气压力：50KPa，系统具有恒压功能

15、真空计：热偶规+压敏电阻规

16、真空测量量程：1Pa—50KPa

17、温控系统：日本岛电SRS10温控仪

18、控制方式：移项触发

19、最大升温速率：15℃/Min

20、最大降温速率：10℃/Min

21、冷却方式：水冷+风冷

22、操作方式：手、自动两种操作方式

23、保护：超温保护、缺水保护、真空系统阀门互锁保护

我公司可定制：箱式炉、箱式真空炉、箱式真空气氛炉、焊接炉、烤盘炉、管式真空炉、卧式真空炉、真空烧结炉、真空电阻炉、高真空烧结炉、真空烤盘炉、真空扩散炉、真空退火炉、真空合金炉、真空交换炉、真空焊接炉、真空氧化炉、真空气氛炉、热处理真空炉、快速退火炉、隧道炉、非晶退火炉、LPCVD。