烤盘炉

一、烤盘炉简介
烤盘炉、CVD烤盘炉、MOCVD烤盘炉、真空烤盘炉设备为 LED 制造行业的一种新型真空设备，与 MOCVD 设备配套使用，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：N2、HCL、CL3)。主要用于有效清除 MOCVD 承受器（SiC 涂层石 墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。

二、烤盘炉用途

16、控制系统：RKC高精度控制器+PLC+触摸屏方式，自动控制整个工艺流程

我公司可定制：真空炉、烤盘炉、真空烤盘炉、CVD烤盘炉、MOCVD烤盘炉、非晶带材退火炉、管式炉、厢式炉、焊接炉、真空焊接炉、MOCVD烤盘炉控制系统、扩散炉、退火炉、合金炉、光亮炉、交换炉、焊接炉、氧化炉、气氛炉、升华炉、氢气炉、气氛炉、升降炉、LPCVD炉、快速退火炉、快速烧结炉、隧道炉、链式炉、烧结炉、电阻炉、实验炉。