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硅片切割片、研磨片、抛光片清洗过程。

切割片： 准备过程 去除胶粘结剂和石墨 超声波清洗 甩干 结束工作 。

研磨片： 准备工作 粗洗 F浸泡 超声波清洗 甩干 结束工作 。

抛光片： 准备工作 去蜡 送检（一） 清洗 送检（二） 结束工作 。

碱性二氧化硅抛光方法与原理。

碱对硅的腐蚀反应；

胶粒见的吸附作用；

抛光衬垫与硅片的机械摩擦作用；

碱的络合作用。

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