真空不锈钢镀钛哪里有

PVD主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。真空蒸镀在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料（或称膜料）并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。溅射镀膜利用气体放电产生气体电离，其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶体，击出阴极靶体原子或分子，飞向被镀基体表面沉积成薄膜。离子镀膜在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质离子化，在气体离子或蒸发物质离子轰击作用下，把蒸发物质或其反应物蒸镀在工件上。

主要工艺：目前，物相沉积（PVD）技术主要包括真空阴极弧物理蒸发、真空磁控离子溅射、离子镀以及增强溅射四种。①阴极弧物理蒸发（ARC）：真空阴极弧物理蒸发过程包括将高电流，表面不锈钢镀钛哪里有，低电压的电弧激发于靶材之上，金属表面不锈钢镀钛哪里有，并产生持续的金属离子。被离化的金属离子以60-100eV平均能量蒸发出来形成高度激发的离子束，在含有惰性气体或反应气体的真空环境下沉积在被镀工件表面。真空阴极弧物理蒸发靶材的离化率在90%左右，所以与真空磁控离子溅射相比，沉积薄膜具有更高的硬度和更好的结合力。

PVD镀膜能够镀出的膜层种类：PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等)，真空不锈钢镀钛哪里有，氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN)，曲阜不锈钢镀钛哪里有，以及氧化物膜（如TiO等)。PVD镀膜膜层的厚度：PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm～1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。

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