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商品详细描述
与不同的气体发应形成一种薄膜涂层。今天所使用的大多数PVD方法是电弧和溅射沉积涂层。这两种过程需要在高度真空条件下进行。Ionbond 阴极电弧PVD涂层技术在20世纪70年代后期由前苏联发明,如今,绝大多数的刀模具涂层使用电弧沉积技术。
工艺温度:典型的PVD涂层加工温度在250℃— 450℃之间,但在有些情况下依据应用领域和涂层的质量,PVD涂层温度可低于70℃或高于600℃进行涂层。
PVD真空镀层按照膜层应用来分类可分为装饰膜层和硬质膜层:
装饰膜层可以改善工件外观装饰性能和色泽同时使工件更耐磨耐腐蚀;硬质膜层用于提高工件的表面硬度和耐磨性,降低表面的摩擦系数,提高工件的使用寿命。
除油—去污—流水冲洗—去离子水冲洗—脱水
过清洗线后将工件挂到PVD治具上,放入烤箱烘烤干燥
基片置于合适的位置是获得均匀薄膜的前提条件.
b、压强的大小. 为了保证膜层质量,压强应尽可能低Pr≦(Pa)
L表示蒸发源到基片的距离为L(cm)。
c、蒸发速率.蒸发速率小时,沉积的膜料原子(或分子)上立刻吸附气体分子,因而形成的膜层结构疏松,郑州市镀钛服务,颗粒粗大,缺陷多;反之,膜层结构均匀致密,机械强度高,膜层内应力大.
d、基片的温度.在通常情况下,基片温度高时,专业镀钛服务,吸附原子的动能随之增大,形成的薄膜容易结晶化,表面镀钛服务,并使晶格缺陷减少;基片温度低时,则没有足够大的能量供给吸附原子,因而容易形成无定形态薄膜.
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