东莞异形抛光机

模具抛光常用的工具及规格类别

2）钻石研磨抛光应注意的事项

钻石研磨抛光必须尽量在较轻的压力下进行，特别是抛光预硬钢件和用细研磨膏抛光时。在用8000#研磨膏抛光时，常用载荷为100～200g/cm2，但要保持此载荷的精准度很难做到。为了方便做到这一点，可以在木条上做一个薄且窄的手柄，东莞异形抛光机，或者在竹条上切去一部分而使其更加柔软。这样可以帮助控制抛光压力，以确保模具表面压力不会过高。当使用钻石研磨抛光时，不仅工作表面要求洁净，工作者的双手也必须十分清洁。

（3）塑料模抛光应注意的事项

塑料模具的抛光与其他行业中所要求的表面抛光有很大的不同，严格说，塑料模具的抛光应该称为镜面加工。它不仅对抛光本身有很高的要求并且对表面平整度、光滑度以及几何度也有很高的标准。镜面抛光的标准分为4级：A0=Ra0.008 μm，A1=Ra0.016 μm，A3=Ra0.032 μm，A4=Ra0.063 μm，由于电解抛光、流体抛光等方法很难控制零件的几何度，异形抛光机，而化学抛光、超声波抛光、磁研磨抛光等方法的表面质量又达不到要求，所以精密模具的镜面加工还是以机械抛光为主。

CMP，即Chemical

Mechanical Polishing，化学机械抛光。CMP技术所采用的设备及消耗品包括:抛光机、抛光浆料、抛光垫、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等。

CMP技术的概念是1965年由Manto提出。该技术初是用于获取高质量的玻璃表面，如望远镜等。1988年IBM开始将CMP技术运用于4MDRAM 的制造中，而自从1991年IBM将CMP成功应用到64MDRAM

的生产中以后，CMP技术在世界各地迅速发展起来。区别于传统的纯机械或纯化学的抛光方法，全自动异形抛光机，CMP通过化学的和机械的综合作用，从而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光易造成的抛光速度慢、表面平整度和抛光一致性差等缺点。它利用了磨损中的'软磨硬'原理，不锈钢异形抛光机，即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光。

化学抛光是金属表面通过有规则溶解达到光亮平滑。在化学抛 抛光材料，抛光蜡光过程中，钢铁零件表面不断形成钝化氧化膜和氧化膜不断溶解，且前者要强于后者。由于零件表面微观的不一致性，表面微观凸起部位优先溶解，且溶解速率大于凹下部位的溶解速率;而且膜的溶解和膜的形成始终同时进行，只是其速率有差异，结果使钢铁零件表面粗糙度得以整平，从而获得平滑光亮的表面。抛光可以填充表面毛孔、划痕以及其它表面缺陷，从而提高疲劳阻力、腐蚀阻力。

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