华泰鑫钛靶真空溅射靶材

北京

装饰、工具、半导体产业纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发 展，硅片尺寸由6”, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线 条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。

　　杂质含量
　　靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材， 对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。

　　密度
　　为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率，还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度 越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。

　　晶粒尺寸及晶粒尺寸分布
　　通常靶材为多晶结构，晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材，晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快；而晶粒尺寸相差较小(分布均匀 )的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。

北京华泰鑫科技有限公司是一家集溅射靶材研发、生产、销售为一体的高科技企业，为广大的真空镀膜行业客户提供性能优异的各种靶材，主要产品有各种材质的旋转靶、平面靶、多弧靶，如钛靶 锆靶，镍靶，铬靶，铜靶，硅靶，钛铝合金靶等，可根据客户的需要定不同的比例的合金以及非金属、氧化物等，长期供应4N高纯金属靶材，5N高纯金属靶材，平面靶材，磁控溅射旋转靶材。本公司拥有国内外先进的技术设备，和高端的技术人员，通过真空熔炼，熔融铸造，粉末冶金，热压，冷（热）等静压等技术，专业研发制造高纯度靶材，我们的靶材纯度高，致密度高，放气量小，晶粒细，成膜质量好，价格优惠，材质、规格、纯度可根据厂家要求制定，供货及时,保证质量可提供GSG检测报告单量，价格优惠