华泰鑫钛铝合金靶

产品名称：钛铝合金靶

钛铝合金在真空镀膜行业也应用较广，可以做成一定比例的合金靶材，作磁控溅射镀膜的原材料。在做真空镀膜靶材时钛铝合金有多种成分比例，常用的有钛铝原子比(at%)90:10、80：:20、70:30、50:50、30:70、20:80、10:90。钛铝合金在钛原子含量大于等于50%时可以用真空熔铸的方式生产，当钛含量减少铝含量相对增加时就只能通过粉末冶金的方法来生产才能达到靶材的要求。钛原子大于等于80%时的钛铝合金还可以锻造，可以轧制

合金比例：TiAl 90:10wt% 80:20wt% 60:40wt% 70:30wt% 50:50wt% 67:33at%50:50at%

钛铝加工工艺：热等静压、熔炼

 加工工艺                                                                

热等静压工艺：热等静压(hot isostatic pressing，简称HIP)是一种集高温、高压于一体的工艺生产技术，加热温度通常为1000 ~2000℃，通过以密闭容器中的高压惰性气体或氮气为传压介质，工作压力可达200MPa。在高温高压的共同作用下，被加工件的各向均衡受压。故加工产品的致密度高、均匀性好、性能优异。同时该技术具有生产周期短、工序少、能耗低、材料损耗小等特点。粒度均匀，镀膜效果平滑均匀。

钛铝靶是北京华泰鑫科技有限公司的优势靶材，色泽稳定，膜层均匀，坚固耐磨，溅射起弧时间短，常年供应给装饰镀生产厂家，应用于手机壳镀膜，眼镜镀膜等，镀膜色板颜色深受广大客户的喜爱。

公司介绍                                            

北京华泰鑫科技有限公司是一家集溅射靶材研发、生产、销售为一体的高科技企业，为广大的真空镀膜行业客户提供性能优异的各种靶材，主要产品有各种材质的旋转靶、平面靶、多弧靶，如钛靶 锆靶，镍靶，铬靶，铜靶，硅靶，钛铝合金靶等，可根据客户的需要定不同的比例的合金以及非金属、氧化物等，长期供应4N高纯金属靶材，5N高纯金属靶材，平面靶材，磁控溅射旋转靶材。本公司拥有国内外先进的技术设备，和高端的技术人员，通过真空熔炼，熔融铸造，粉末冶金，热压，冷（热）等静压等技术，专业研发制造高纯度靶材，我们的靶材纯度高，致密度高，放气量小，晶粒细，成膜质量好，价格优惠，材质、规格、纯度可根据厂家要求制定，供货及时,保证质量可提供GSG检测报告单量，价格优惠

   北京华泰鑫科技有限公司设有光学镀膜材料，磁控溅射靶材，金属粉末，合金材料等事业部。产品服务涉及眼镜、玻璃、液晶显示屏、光学、信息电子、航天航空、安防、太阳能光伏、新能源、化工等多个领域，主要供应给显示器镀膜行业，工具装饰镀膜行业，建筑/汽车玻璃镀膜，光磁数据库存储，光通讯/光学镀膜，太阳能光伏等国内外真空镀膜行业的常规买家。

纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发 展，硅片尺寸由6”, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线 条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。

  杂质含量
  靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材， 对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。

  密度
  为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率，还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度 越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。

  晶粒尺寸及晶粒尺寸分布
  通常靶材为多晶结构，晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材，晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快；而晶粒尺寸相差较小(分布均匀 )的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀