高真空电子束镀膜机报价

电子束结构介绍

粒子增速器的结构可以与显像管类比。显像管中的电子枪对应于增速器的电子枪或离子源，显像管中加速电子用的高压电极对应于增速器中的高压加速电极及加速腔。显像管中控制电子运动的电偏转板与聚焦电子的聚焦线圈，对应于增速器中控制粒子运动轨道和聚焦粒子束流的多种电磁部件，高真空电子束镀膜机公司，如导向磁铁、聚焦磁铁、多极校正磁铁等。对粒子增速器的粒子运行管道来说，为了减少粒子在运动中与残余气体碰撞而造成粒子的丢失和束流性能变坏，所要求的真空度比显像管要高数千到数万倍。随着科学技术的不断发展，高真空电子束镀膜机多少钱，根据科学家对粒子能量和流强的不同要求，陆续产生了不同原理、不同结构的多种增速器。

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电子束蒸发镀膜机的技术特点

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1、样品台：水冷样品座，样品座高度可调，便于调整蒸距。调节范围：样品台与基片的可调节范围300mm.

2、电子枪：电子枪功率6kW可调（满足金属、绝缘材料高速蒸发）4穴水冷坩埚（适用于对多种材料进行蒸发镀制多层膜且膜层较薄工艺中应用效果好）。为保持E型电子枪蒸发绝缘稳定性，配制高品质束流扫描控制器，具有多种供控制程序进行选择的预设模式，方便于操作、实验数据积累。配套相应蒸发坩埚内衬，以适应不同材料，确保蒸发速率稳定性，高真空电子束镀膜机价格，重复性.

电子束镀膜机介绍

* 带旋转的倾斜沉积

* 行星式基片夹具

* 基片RF/DC偏压

* 基片清洗的离子源以及离子辅助蒸镀

* 附加物理沉积源（热蒸镀，湛江高真空电子束镀膜机，磁控溅射）

* 用于反应蒸镀的MFC

* 不同的泵组选择，可升级分子泵为冷泵，前级泵为干泵

* 进样室和自动上下片/可支持单片和25片片夹

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