激光脉冲沉积装置价格

PLD脉冲激光沉积系统介绍

PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，激光脉冲沉积装置，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。

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脉冲激光沉积的优点

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1. 易获得期望化学计量比的多组分薄膜，即具有良好的保成分性；

2. 沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低，制备的薄膜均匀；

3. 工艺参数任意调节，对靶材的种类没有限制；

4. 发展潜力巨大，激光脉冲沉积装置报价，具有极大的兼容性；

5. 便于清洁处理，可以制备多种薄膜材料。

脉冲激光沉积介绍

脉冲激光沉积，是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，激光脉冲沉积装置多少钱，可以合成一系列具有功能的纳米结构和纳米颗粒。

另外，PLD 是一种“数字”技术，激光脉冲沉积装置价格，在纳米尺度上进行工艺控制（A°/pulse）。

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