oled多源蒸发镀膜机批发

300C有机无机联合蒸发

主要用途： 　　

用于制备导电薄膜，多源蒸发镀膜机批发，半导体薄膜，铁电薄膜，光学薄膜等。 　　

系统组成: 　　

该蒸镀设计系统主要由真空抽气及真空测量系统、真空室系统、工件架系统、蒸发源系统、膜厚测试系统、蒸发舟挡板系统、烘烤照明系统、水冷却循环及报警系统、电控及控制系统、辅助系统等设计。 　　

技术指标： 　　

极限真空度：≤6.7×10 Pa 　　

恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min 　　

系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S； 　　

真空室：Ф400 x400mm圆筒型真空室 ， 　　

蒸发源：1-4个，采用电阻蒸发舟、蒸发蓝、绞丝、束源炉至下向上蒸发镀膜。 　

蒸发温度：加热温度：室温～1800℃； 　　

蒸发舟在距中心100～160mm的圆周上；蒸发舟可上下升降，调节幅度0～150mm（样品中心与坩埚距离150~300mm）； 　

工作架类型及尺寸：样品托盘直径Φ300mm，其上可放多个直径20mm的小样品；样品托盘具有自转功能，转速在0～20 转/分钟，转速可调；样品托盘可摆角，ZF450多源蒸发镀膜机批发，角度在0～30度可调； 　　

烘烤温度：400℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到700℃） 　　

电阻蒸发源：电压5V，10V，功率2.5KW，水冷电极1~4对 　　

石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?

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多源蒸发系统介绍

沈阳鹏程真空技术有限责任公司专业供应电阻热蒸发镀膜产品，400A多源蒸发镀膜机批发，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。

主要用途：　　

系统主要用来生长EL OEL分子有机电致发光器件薄膜的研究工作　　

系统组成:　　

该类设备为双室带手套箱结构的有机、无机、多源有机、无机气相分子沉积设备，采用直线式结构，由一个金属材料生长、氧化物生长室、一个有机材料生长室和一个手套箱组成，金属材料生长和氧化物生长室以及进样室/氧化物生长室之间通过空气锁联接，oled多源蒸发镀膜机批发，样品通过带远程手控盒功能的电动磁力耦合装置在两个生长室之间手动传递。可选手套箱。　　

电阻热蒸发镀膜——“蒸发技术”介绍

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蒸发技术分为间歇蒸发与连续蒸发、直接电阻加热蒸发和间接电阻加热蒸发，连续生产与制造厚膜时采用连续蒸发加热。一个入射的蒸气原子在表面的滞留时间中，原子不断地扩散形成不均匀的成核作用，随着蒸气原子不断地冲击表面，各个核都在增长，相邻各核开始接触进入聚结阶段，直到形成连续膜。也可把上述过程划分为小岛阶段、网络阶段、孔阶段及连续膜阶段。

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