PLD450型激光镀膜设备多少钱

脉冲激光沉积系统(PLD)

产品具有如下基本特点：

1. 系统可根据客户的特殊要求设计，操作简单方便。可使用大尺寸靶材生长大面积薄膜。

2. 电抛光腔体，主腔呈方形，其前部是铰链门，方便更换基底和靶材

3. 双轴磁性耦合旋转靶材操纵器，可手动或计算机控制选定靶材。磁力杆传送基底到基底旋转器上，可手动或电动降低旋转器，实现简单快速地更换

4. 主腔室预留备用的腔口，如用于观察靶材和基底，安装原子吸收或发射光谱仪、原位椭偏仪、离子枪或磁控溅射源、残留气体分析器和离子探针或其他的元件等等

5. 系统使用程序化的成像链(Optical Train) ，包括聚焦透镜、反射镜台、动力反射镜支撑架和智能视窗等，无需频繁地校准光学组件。在激光通过大直径靶材时可使其光栅扫描化（rastering），以获得均匀性的薄膜。智能视窗不仅可准确监视沉积过程中的靶材激光注入量（OTLF），而且可长时间保持激光束光路的清洁

6. 系统使用特有的黑体基底加热设计，高温下（950°C）可与银胶兼容使用

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激光脉冲沉积简介

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脉冲就是隔一段相同的时间发出的波（电波/光波等等）等机械形式。激光脉冲指的是脉冲工作方式的激光器发出的一个光脉冲，简单的说，好比手电筒的工作一样，一直合上按钮就是连续工作，PLD450型激光镀膜设备，合上开关立刻又关掉就是发出了一个“光脉冲”。用脉冲方式工作有它的必要性，比如发送信号、减少热的产生等。激光脉冲能做到特别短，PLD450型激光镀膜设备多少钱，譬如“皮秒”级别，PLD450型激光镀膜设备定做，就是说脉冲的时间为皮秒这个数量级——而1皮秒等于一万亿分之一秒。

脉冲激光沉积系统(PLD)介绍

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PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。

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