单组圆管抛光机

是外贸环境明显好转，单组圆管抛光机，中国机电产品在全球竞争力明显提升？近日从海关的相关数据中看到，多功能圆管抛光机，上半年机电产品出口4，170亿美元，增长35.9%，高出同期总体出口增速0.7个百分点，占同期出口总值的59.1%。与此同时，服装、鞋类、家具等传统大宗商品的出口增速亦加快。

是外贸环境明显好转，中国机电产品在全球竞争力明显提升？近日从海关的相关数据中看到，上半年机电产品出口4，170亿美元，增长35.9%，高出同期总体出口增速0.7个百分点，占同期出口总值的59.1%。与此同时，服装、鞋类、家具等传统大宗商品的出口增速亦加快。

虽然之前机电产品面临种种贸易壁垒，但机电企业克服重重障碍，努力调整出口机电产品结构，满足市场需要；发展现有市场的产品出口，抓住机遇，变危为机；改进出口方式完善外贸企业经营机制，及时发现和掌握市场变化和新的需求。做到“东边不亮西边亮”，继续保持着我国出口产品老大哥形象。

机电产品在中国外贸出口总额里超过半壁江山，是拉动中国外贸出口企稳回升的重要力量。在出口形势依然未明朗情况下，如何在保住市场和推进产业转型升级中找到平衡点，一些企业建议尽量保住税率和汇率的稳定，由企业根据市场需求来调整。专家预料，在6月底中央取消钢材、化工等产品出口退税优惠后，随着外贸的企稳，下一批很可能是机电和纺织业。

接下来机电企业最重要的任务是“保增长，提生产”，虽然出口增速可喜，但值得主要的是进口商品中机电产品进口总额亦十分庞大，上半年进口总额达3，026.4亿美元。我们不难看出进口产品多为高精技术产品，这主要是因国内厂商当前的生产水平无法满足市场需求。

“公司现在最紧要的，一方面加大内销比重，另一方面在外销方面提高产品设计档次和技术含量方面下工夫来提升。”机电通会员王先生告诉本网编辑，“企业的出口产品在海外市场的竞争力主要取决于较低的制造成本和较低销售价格，也正是我们缺乏高技术，而不得不进口国外的先进生产设备。”

、扩大生产企业自营出口，立式圆管抛光机，是应对全球经济一体化新形势的迫切需要，也是企业深化改革、做大做强、不断增强国际竞争力的有效途径。通过开展专题宣传推介，鼓励机电企业与跨国公司对接，引进先进技术、管理理念、国外知名品牌和市场渠道，实现机电企业核心竞争力的快速提升，提高机电产品出口的实力水平，逐步发展我国机电企业的国际地位。

自动抛光机常见的问题及应对方法

自动抛光虽说更加方便快捷、效率高，但也会有一些必将出现的问题。本文将集中介绍自动抛光中可能会出现的问题，并给出解决对策。

一、抛光轮的使用问题

在抛光整个工艺流程中，圆管抛光机，抛光轮的重要性不用多说，表面无论是怎样的处理都要用它来完成。过砂、去皮、去毛刺、亚光抛光、镜面抛光等等。随着它的重要性，凸显的问题也贴别多。

1.根据不同抛光材质选用抛光轮，针对不同金属要采用不同的抛光轮。例如不锈钢抛光初抛时可采用麻轮或油麻轮，应为麻轮的硬度够大，才能够对应不锈钢表面赵成打磨效果；而像铜类产品就不能用这类过硬的抛光轮，铜的质地过软，抛光轮过硬容易变形，目前一般采用风轮。

2.根据抛光要求选用抛光轮。前面说到抛光有过砂、哑光、镜光等不同层次的要求。过砂一般采用砂带、千叶轮打磨，特殊情况可能采用海绵轮和麻轮。哑光效果采用麻绳轮、麻轮、千丝轮等。镜面效果不锈钢一般采用布轮一般采用，较软的可以使用珍珠布轮。

二、抛光蜡的使用问题

内行人士都知道，光是用抛光轮干抛只有把产品抛坏了这个结果，因为我们在抛光的同时需要在抛光轮上涂抹一层化学药剂——抛光蜡（抛光膏）。而抛光蜡也是种类繁多，我们要怎么区分，怎么选用呢？抛光的使用一般根据抛光的效果和抛光产品的材质决定。初抛中，不锈钢一般使用普通白蜡，锌合金、铝合金使用黄蜡或者红蜡，304 不锈钢可以采用紫蜡或者蓝蜡。在精抛中，一般使用绿蜡，如果要求较高可以使用五号小白蜡。

三、夹具问题

在自动抛光的过程中，我们经常会碰到产品固定的问题。抛光行业中产品种类多种多样，除了圆管、方管、平板等常用规则的产品可以不用夹具，有标准的机械进行抛光外，一些不规则或者小型的产品则需要对其进行固定才能进行抛光。固定产品的治具在抛光设备中被称为夹具，一般被固定在机械的工作台上，主要有真空吸夹具、磁吸夹具、一般夹具。

不规则的产品抛光时如果不装夹具，可能会出现打飞的情况，这在抛光生产中是安全生产的大忌。如何定做一款合适的夹具，对抛光生产的效率可能产生巨大的影响。例如，平面产品在使用平面抛光机时，需要在平面抛光机工作台上安装夹具，一般平面类可以使用真空吸夹具，铁质产品可以使用磁吸夹具。但是夹具的制造一般需要根据抛光产品外形量身定制，在抛光机械的设计过程中，需要尽量协调，保证夹具对机械和产品的契合。

抛光液是

CMP

的关键要素之一

，

抛光液的性能直接影响抛光后表面的质量。抛光液一般

由超细固体粒子研磨剂

(

如纳米

SiO2

、

A12O3

粒子等

)

、表面活性剂、稳定剂、氧化剂

等组成

，

固体粒子提供研磨作用

，

化学氧化剂提供腐蚀溶解作用。抛光液的化学成分及浓

度、磨粒的种类、大小、形状及浓度、抛光液的粘度、

pH

值、流速、流动途径对

CM

过程中的材料去除速度都有影响。目前

CMP

的抛光液通常使用球形纳米级颗粒来加速

切除和优化抛光质量

，

如胶体

SiO2

粒子

，

改变了抛光液的流变性能

，

可以用微极性来表征

这类流体的流变性能。张朝辉等

[2]

给出了考虑微极性效应的

CMP

运动方程

，

并进行了

数值求解

，

数值模拟结果表明

，

微极性将提高抛光液的等效粘度从而在一定程度上提高其

承载能力

，

加速材料去除

，

这在低节距或低转速下尤为明显

，

体现出尺寸依赖性。

Lei[3， 4]

等系统研究了纳米

SiO2

抛光液对镍磷敷镀的硬盘基片的化学机械抛光性能

，

发现抛光

液的抛光性能与抛光液中纳米

SiO2

粒子的粒径及浓度、氧化剂的用量、抛光液的

pH

值、抛光液的流量等均有关

，

适宜的抛光液组成为

:

粒径

30nm

和浓度

5% ~6%

、氧化

剂的用量

1% ~2%

、抛光液的

pH

值

1. 8

、流量不小于

300mL/min，

但是过大的流量对

抛光性能没有进一步提高

，

只会增加成本。朱永华

[5]

等采用纳米

SiO2

作为抛光磨料在

不同抛光液条件下

(pH

值、表面活性剂、润滑剂等

)

对玻璃基片

CMP

去除速率和表面质

量的变化规律进行了研究

，

并利用原子力显微镜和光学显微镜观察了抛光表面的微观形

貌。张建新等

[6]

以

LB2Mer

模型为理论指导对恒液面聚合生长法制备大粒径、低分散

度硅溶胶研磨料的粒径增长阶段进行了机理分析

，

制得了符合高质量、率

CMP

专用

的大粒径

(

平均粒径为

112nm)

、低分散度

(

接近于

1. 00)

硅溶胶研磨料

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