单室三源金属热蒸发镀膜机价格

钙钛矿镀膜机介绍

主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。钙钛矿镀膜机工作过程中样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置，单室三源金属热蒸发镀膜机报价，防止蒸发源被污染。

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双靶磁控溅射镀膜仪

产品特点

1、此款镀膜仪配置有两个靶枪：一个靶枪配套的是射频电源，用于非导电靶材的溅射镀膜；一个靶枪配套的是直流电源，用于导电材料的溅射镀膜

2、该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜，应用非常广泛。

3、该镀膜仪体积较小，且配备有触摸屏控制面板，操作方便。

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有机热蒸发镀膜机介绍

技术指标：

1. 真空室的极限真空度达5*10-5pa，漏率为关机12小时≤5pa

2. 真空腔内配有集约样品台一套，配有大挡板和16套小挡板，手动

控制，开关方便快捷，每个小挡板挡两块30*30mm样片

3. 蒸发源共14套，其中10套有机蒸发源，4套金属蒸发源。控温

精度±1℃，可以实现温度或电流补偿实现蒸镀速率稳定的功能

4. 金属蒸发源配4台一带一1000W可控硅调压电源，通过铜电极

连接，两端可夹钨绞丝或者钽舟，单室三源金属热蒸发镀膜机厂家，钨绞丝可以蒸镀丝状或者大颗粒

材料，钽舟可以蒸镀粉末状材料，蒸发源采用陶瓷全密封，单室三源金属热蒸发镀膜机，避免交

叉污染

5. 有机蒸发源配10台一带一温控电源，有机源温度为室温-500度，

可以根据材料及用户需求自行调节

6. 样品台具有旋转、升降功能，可在线更换掩膜板一次，可同时装

载30mm*30mm样品16块。本产品每两个样品都配有小挡板，

并且通过PLC控制步进电机对每个小挡板做16个定位，使机械手

推拉小挡板，样品与蒸发源之间的间距为200-300mm

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