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真空电镀设备镀膜前为何需要清洗？

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。

主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，硬质涂层设备等。

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真空电镀设备镀膜前为何需要清洗？

真空电镀设备使用一段时间后，需要清洗，很多人会问为什么？不定期清洗会会有什么问题呢？下面分析一下真空电镀设备不清洗会怎样。

使用真空电镀设备镀膜之前，对镀膜材料做简单的清洗可以延长镀膜机的使用寿命，由于各种污染物不仅会使真空系统不能获得所需要的真空，真空元件也会影响镀膜机部件的连接强度和密封性能。

真空镀膜机中常见的污染物：

1、油

包括加工，装配，操作期间用到的润滑油，实验室真空镀膜装置供应商，切削液，真空油脂等；

2、操作时，手汗、吹气时口中的唾沫、水蒸气、酸、碱、盐等；材料清洗时的残余物质，手汗，水中的矿物质；空气中的尘埃和其它有机物残留和抛光粉尘等。

清理这些污染物，有助于提高真空电镀设备工作的稳定性，使工作可以更顺利地进行。

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真空镀膜机行业市场前景分析

真空镀膜机行业市场前景分析

市场需求本报告从以下几个角度对真空镀膜机行业的市场需求进行分析研究：1、市场规模：通过对过去连续五年中国市场真空镀膜机行业消费规模及同比增速的分析，判断真空镀膜机行业的市场潜力与成长性，并对未来五年的消费规模增长趋势做出预测。该部分内容呈现形式为“文字叙述+数据图表（柱状折线图）”。2、产品结构：从多个角度，对真空镀膜机行业的产品进行分类，给出不同种类、不同档次、不同区域、不同应用领域的真空镀膜机产品的消费规模及占比，并深入调研各类细分产品的市场容量、需求特征、主要竞争厂商等，有助于客户在整体上把握真空镀膜机行业的产品结构及各类细分产品的市场需求。该部分内容呈现形式为“文字叙述+数据图表（表格、饼状图）”。3、市场分布：从用户的地域分布和消费能力等因素，来分析真空镀膜机行业的市场分布情况，并对消费规模较大的重点区域市场进行深入调研，具体包括该地区的消费规模及占比、需求特征、需求趋势??该部分内容呈现形式为“文字叙述+数据图表（表格、饼状图）”。4、用户研究：通过对真空镀膜机产品的用户群体进行划分，给出不同用户群体对真空镀膜机产品的消费规模及占比，同时深入调研各类用户群体购买真空镀膜机产品的购买力、价格敏感度、品牌偏好、采购渠道、采购频率等，分析各类用户群体对真空镀膜机产品的关注因素以及未满足的需求，并对未来几年各类用户群体对真空镀膜机产品的消费规模及增长趋势做出预测，从而有助于真空镀膜机厂商把握各类用户群体对真空镀膜机产品的需求现状和需求趋势。该部分内容呈现形式为“文字叙述+数据图表（表格、饼状图）”。

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蒸发镀膜机—北京泰科诺科技有限公司

蒸发镀膜机技术参数 Thermal Evaporator Technical Parameters：

型号Model:                           ZHD300/ZHD400/ZHDS400

镀膜方式Coating Method:        电阻蒸发/多源蒸发

腔室结构 Chamber Structure:   玻璃钟罩/立式方形前开门/方箱式前后开门

腔室尺寸Chamber Size:            Φ300×H360mm/L400×W440×H450mm

加热温度 Baking Temp:            室温～300℃

旋转基片台 Rotating Substrate Holder:        Φ100mm/120mm×120mm

基片台升降 Substrate Holder Lifting:            无/手动调节升降高度0～80mm

膜厚不均匀性 Film Thickness Nonuniformity:   基片台Φ80mm范围内≤±5.0%

蒸发源Evaporation Source:     2组金属源/2~4组金属源、2~4有机源(可选)

控制方式Operation Method:       PLC

功率 Power:                         ≥3.2kW/≥8kW/≥10kW

其他选配 Other Options:        蒸发电源/膜厚仪/冷水机/等

产品特点 Product Features：

1. 工艺成熟，实验室真空镀膜装置厂商，性能稳定，使用维护成本低；

2. 功能强大，兼容有机蒸发与无机蒸发，多元共蒸与分蒸；

3. 一体化设计，占地面积小，可单独或与手套箱集成使用；

4. 适用范围：用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜等，也可用于生产线前期工艺试验；广泛用于钙钛矿太阳能电池、OPV有机太阳能电池、OLED薄膜等研究系统等等。

真空镀膜机知识分享：

蒸发镀膜和磁控溅射镀膜的区别？

真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。

真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，并直接沉淀在基片上形成薄膜。

离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴极的靶，使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面，形成所需要的薄膜。

真空蒸发镀膜最常用的是电阻加热法，实验室真空镀膜装置厂家，其优点是加热源的结构简单，造价低廉，操作方便；缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质材料。电子束加热和激光加热则能克服电阻加热的缺点。电子束加热上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热，实验室真空镀膜装置，电子束的动能变成热能，使材料蒸发。激光加热是利用大功率的激光作为加热源，但由于大功率激光器的造价很高，目前只能在少数研究性实验室中使用。

溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面（靶），使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态，常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子，离子或中性粒子，因为离子在电场下易于加速获得所需要动能，因此大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上，即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二极溅射利用的是直流辉光放电；三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电；射频溅射是利用射频辉光放电；磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。

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