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裸铜箔的应用发展
裸铜箔在70年代初西北铜加工厂首先研究成功了生箔连续生产工艺,金手指胶带,并迅速在全国推广。80年代初西北铜加工厂又率先开发了生箔阴极表面处理技术。高性能电解铜箔是一种缺陷少、细晶粒、低表面粗化度、高强度、高延展性、更加薄的铜箔。它经过适当的表面处理,在PCB制造中具有高的蚀刻系数、低的残铜率、可避免短路、适用于高频,可制成高密度细线化、薄型化、高可靠性PCB用的铜箔。
90年代期间,裸铜箔随着我国电解铜箔的需求量的迅速增大,我国又有十家左右的铜箔厂家相继建立。尽管我国电解铜箔生产产量在90年代末21世纪初有了相当大的提高,但是在制造技术与产品水平上,和日本、美国相比,还存在着很大的差距。
裸铜箔的表面处理工艺
裸铜箔运行张力小时,这些现象减轻之间没有电解液,无基材导电胶,而凹坑与铜箔之间因有缝隙,里面存有电解液,胶带,使凸凹点处与铜箔其它地方的腐蚀程度不同,造成铜箔表面色泽不同。理槽液下导辊表面橡胶老化破损,导辊表面橡胶呈现出凸凹不平的麻点。当铜箔张力大时,铜箔与导辊表面的橡胶接触后,凸点与铜箔表面接触的过于紧密。铜箔接触导辊的凹点处成为黑点。
裸铜箔接触导辊的凸点处迎着阳光看成为亮点,是铜箔与凸点接触时产生机械变形摩擦所至,背着阳光看是暗点,可能此点的铜箔因没有液膜保护,被氧化的原因。
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