真空扩散炉

扩散炉主要是完成半导体元器件的扩散，可作元器件的烧结、退火、等工艺，具有应用范围广、安全可靠、控制精度高等特点。还可应用于集成电路、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池、半导体器件的扩散、氧化退火、烧结等工艺。特点：主机为水平一至四管炉系统构架，扩散炉价格，独立完成不同的工艺或相同工艺；工业计算机控制系统，扩散炉厂家，对炉温、进退舟、气体流量、闸门等动作进行自动控制。

扩散炉是研制生产晶体管、可控硅和集成电路等半导体器件的工艺设备之一，福建扩散炉，主要用于扩散和氧化等工序。

扩散炉主要由控制部分、净化部分、电阻加热炉部门、气路部分组成。控制部分主要控制进出口，电阻加热炉主要是控制扩散炉的温度部分，气路主要控制扩散源的流量及尾气的排放量。

扩散炉是一种能自动控制温度的电阻炉。由温度控制器、可控硅装置和炉体构成。炉体由保温材料、加热丝和炉管组成。温度控制器可控制装置对炉温进行自动控制，使炉膛温度保持稳定、均匀，以满足工艺要求。

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