真空电镀工艺

为了更好的配合市场的脚步，配合国际品牌的品质要求，千屹真空电镀加工的每款产品都严格把关进行性能测试，其中测试包括：盐雾测试、耐磨测试、硬度测试、RCA附着力测试、色差仪检测、百格测试、高低温、人工汗测试、膜层分析、膜厚测试等。 核心工艺为PVD真空电镀。适用于钢饰、铜链、穿刺、钟表、皮带头、渔具、...、相机、导航器、笔记本、硬盘、U盘、3C产品、高尔夫球头、眼镜、厨卫五金、灯饰、工艺品、箱包配件等在不锈钢、钨钢、钛材、铜材、银材、锌合金等五金基材上的高级表面处理加工。 功效：高抗磨；高耐温；高物性；符合ROHS标准；通过盐雾、耐磨、人工汗、硬度、RCA、附着力等常规测试。 PVD真空电镀主要工艺有：可镀IPG14K、18K、24K金、IPG玫瑰金、IP黄、仿金色、钛金色、锆

离子镀膜的均匀性要求 

pvd 真空镀膜，离子镀膜膜层的均与性主要包括成分均匀、组织结构均匀和膜厚均匀，最终保证膜层各种性能均匀。材料的性能由其诚分与组织结构所决定，膜层必须获得所设计的膜系成分和组织结构均匀一致。薄膜是二维材料，膜的厚度是重要的材料技术指标。比如薄膜的干涉显色，耐腐蚀性和耐磨性都与膜厚密切相关，膜厚均匀保证薄膜相关的性能均匀。

   离子镀膜膜层的成分来源于镀料，或者说来源于蒸发源和溅射靶的材料以及反应气体。这些沉积物的物种及其比例，在沉积过程要稳定供给。

   离子镀膜膜层的组织结构除了决定于沉积物料的成分外，还取决于沉积粒子的能量、粒子入射角度和基体温度等，在沉积过程中要求保持一致。

   离子镀膜膜层的厚度取决沉积物的总量，当然以膜致密度相同为前提。

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