昆山圆盘抛光机

厂商 :东莞市宝亿自动化科技有限公司

广东 东莞
  • 主营产品:
  • 平面自动抛光机
  • 模具钢镜面抛光机
  • 数控自动抛光机
联系电话 :13650005386
商品详细描述
昆山圆盘抛光机,间歇式圆盘抛光机,全自动圆盘抛光机,圆盘抛光机

抛光液是

CMP






的关键要素之一

抛光液的性能直接影响抛光后表面的质量。抛光液一般

由超细固体粒子研磨剂

(

如纳米

SiO2

A12O3

粒子等

)

、表面活性剂、稳定剂、氧化剂

等组成

固体粒子提供研磨作用

化学氧化剂提供腐蚀溶解作用。抛光液的化学成分及浓

度、磨粒的种类、大小、形状及浓度、抛光液的粘度、

pH

值、流速、流动途径对

CM

过程中的材料去除速度都有影响。目前

CMP

的抛光液通常使用球形纳米级颗粒来加速

切除和优化抛光质量

如胶体

SiO2

粒子

改变了抛光液的流变性能

可以用微极性来表征

这类流体的流变性能。张朝辉等

[2]

给出了考虑微极性效应的

CMP

运动方程

并进行了

数值求解

数值模拟结果表明

微极性将提高抛光液的等效粘度从而在一定程度上提高其

承载能力

,全自动圆盘抛光机,

加速材料去除

,圆盘抛光机,

这在低节距或低转速下尤为明显

,昆山圆盘抛光机,

体现出尺寸依赖性。

Lei[3, 4]

等系统研究了纳米

SiO2

抛光液对镍磷敷镀的硬盘基片的化学机械抛光性能

发现抛光

液的抛光性能与抛光液中纳米

SiO2

粒子的粒径及浓度、氧化剂的用量、抛光液的

pH

值、抛光液的流量等均有关

适宜的抛光液组成为

:

粒径

30nm

和浓度

5% ~6%

、氧化

剂的用量

1% ~2%

、抛光液的

pH

1. 8

、流量不小于

300mL/min,

但是过大的流量对

抛光性能没有进一步提高

只会增加成本。朱永华

[5]

等采用纳米

SiO2

作为抛光磨料在

不同抛光液条件下

(pH

值、表面活性剂、润滑剂等

)

对玻璃基片

CMP

去除速率和表面质

量的变化规律进行了研究

并利用原子力显微镜和光学显微镜观察了抛光表面的微观形

貌。张建新等

[6]

LB2Mer

模型为理论指导对恒液面聚合生长法制备大粒径、低分散

度硅溶胶研磨料的粒径增长阶段进行了机理分析

制得了符合高质量、率

CMP

专用

的大粒径

(

平均粒径为

112nm)

、低分散度

(

接近于

1. 00)

硅溶胶研磨料




抛光机是

CMP

的基础

大多数由抛光底盘、抛光头、在线检测装置及其它部件组成

多数的生产型抛光机都有多个抛光头

,间歇式圆盘抛光机,

以适应不同材料的需要。

CMP

设备目前正在由单

头、双头抛光机向多头抛光机发展

结构逐步由旋转抛光结构向轨道抛光结构和线性抛

光结构方面发展。芯片特征线宽的不断减小对

CMP

设备提出了更高的要求

如设备集

成、干进干出、抛光头改进、多工序加工、无研磨膏

CMP

、终点检测、自动输送接

口、干法清洗圆片等

同时

对于

0. 18

μ

m

或更小图形尺寸的新材料

(

低、高介电常数绝

缘材料和铜

)

CMP

设备还有待开发。


间歇式圆盘抛光机_圆盘抛光机_宝亿科技(查看)由东莞市宝亿自动化科技有限公司提供。“平面自动抛光机,模具钢镜面抛光机, 数控自动抛光机”就选东莞市宝亿自动化科技有限公司(www.dgbaoyikj.com),公司位于:东莞市虎门镇九门寨社区三门口路27号,多年来,宝亿科技坚持为客户提供优质的服务,联系人:黄小姐。欢迎广大新老客户来电,来函,亲临指导,洽谈业务。宝亿科技期待成为您的长期合作伙伴!

相关产品推荐