真空镀膜靶材

靶材的分类

       根据应用主要包括半导体领域应用靶材、记录介质用靶材、显示薄膜用靶材、光学靶材、超导靶材等。其中半导体领域应用靶材、记录介质用靶材和显示靶材是市场规模大的三类靶材。

       靶材形状有长方体、正方体、圆柱体和不规则形状。长方体、正方体和圆柱体形靶材为实心，溅射过程中，圆环形永磁体在靶材表面建立环形磁场，在轴间等距离的环形表面上形成刻蚀区，其缺点是薄膜沉积厚度均匀性不易控制，靶材的利用率较低，仅为20%~30%。目前国内外都在推广应用旋转空心圆管磁控溅射靶，其优点是靶材可绕固定的条状磁铁组件旋转，因而360°靶面可被均匀刻蚀，真空镀膜靶材，利用率高达80%。

Ag及Ag合金靶材

       Ag靶材主要应用于光盘介质的反射膜；STN液晶显示装置或有机EL显示装置等的光反射性薄膜。在Ag合金中添加少量的In、Sn、Zn或Au、Pd、Pt，靶材，或根据情况添加少量的Cu，真空电镀靶材，可将低溅射靶材电阻，提高靶材图案形成性、耐热性、反射率和耐硫化性等。

深圳市众诚达应用材料科技有限公司旋转钼铌、旋转铝钕靶材

产品详情

一、靶材应用：触控屏行业

二、电容式/电阻式触摸屏靶材

深圳市众诚达应用材料科技有限公司工厂主要生产陶瓷、金属、合金、化合物等多种溅射靶材，并为客户提供背板与帮定服务。

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