北京旋转靶材

众诚达主要经营：溅射靶材、靶材、铬靶、硅靶、铜靶 、钨鉬、钛铝靶  。薄膜的纯度与靶材的纯度关 系极大，过去99.995 %（4 N5） 纯度的铜靶，或许能够满 足半导体厂商0.3 5pm 工艺的需求，但是却无法满 足 目前0.2 5um的工艺要求， 而未米的 0.18um 工艺甚至0.13m工艺，所需要的靶材纯度将要求达 到5甚至 6N以上。铜与铝相比较，铜具有更高的抗电迁移能力及更 低的电阻率，ito旋转靶材，能够满足！

平面靶材，方靶、圆靶，溅射靶材，合金靶材，氧化锌镓旋转靶材，真空镀膜靶材，陶瓷靶材等，旋转靶材，提供靶材全套解决方案！

公司专业生产铜靶材、铝靶材、钨靶材、钛靶材、铟靶材、镍靶材、锆靶材、铬靶材等溅射靶材，公司生产的高纯精深加工材料和制品广泛应用于航天航空、国防军工、汽车舰船、信息电子、设备制造等大型军工企业，远销北美洲、大洋洲等，目前和全国各大知名院校、研究所、军工企业保持长期合作，赢得国内外用户的一致好评，北京旋转靶材，详情可咨询免费服务热线。

平面显示器用靶材

 平面显示器（FPD) 近年来大幅冲 以阴极射线管 (CRT) 为主的电脑显示器及电视机市场，亦将带动ITO靶材的技术与市场需求。现在的1 T O靶材有两种．一 种是采用纳米状态的氧化铟和氧化锡粉混合后烧结，一种是采用铟锡合金靶材。铟锡台金靶材可以采用 直流反应溅射制造 I T O薄膜，但是靶表面会氧化而影 响溅射率，并且不易得到大尺寸的台金靶材。

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