金属靶材

深圳市众诚达应用材料科技有限公司  随着电子信息产业的飞速发展，有色金属靶材，薄膜科学应用日益广泛。溅射法是制备薄膜材料的主要技术之一，金属靶材，溅射沉积薄膜的源材料即为靶材。用靶材溅射沉积的薄膜致密度高，附着性好。

众诚达主要经营：溅射靶材、靶材、铬靶、硅靶、铜靶 、钨鉬、钛铝靶  。薄膜的纯度与靶材的纯度关 系极大，过去99.995 %（4 N5） 纯度的铜靶，或许能够满 足半导体厂商0.3 5pm 工艺的需求，但是却无法满 足 目前0.2 5um的工艺要求，金属靶材公司， 而未米的 0.18um 工艺甚至0.13m工艺，所需要的靶材纯度将要求达 到5甚至 6N以上。铜与铝相比较，铜具有更高的抗电迁移能力及更 低的电阻率，能够满足！

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企业定位：专注高纯金属材料的研发与应用。

企业使命：持续关注客户需求，给客户提供具有竞争力的产品及服务，为客户创造价值。

企业理念：全心全意服务客户。

企业价值观：合作共赢。

企业精神：学习、敬业、服务、创新。

企业愿景：行业标杆、企业楷模。

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