ito旋转靶材

产品详情

一、靶材应用：触控屏行业

二、电容式/电阻式触摸屏靶材 靶材尺寸：G2.5，G3，G5，G8.5，G10，长可达4000mm

产品特点：

钼铌（90/10at%)：采用国际领先的热等静压烧结成型技术制造

铝钕（97/3wt%)：采用先进的熔炼配合锻造轧制技术，与背板铟绑定构成

我们的团队始终坚持“全心全意服务客户”的理念，氧化铟锡旋转靶材，持续持续关注客户的需求，ito旋转靶材，给客户具提供有竞争力的产品及服务，氧化锌铝旋转靶材，为客户创造价值。

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随着电子信息产业的飞速发展，薄膜科学应用日益广泛。溅射法是制备薄膜材料的主要技术之一，溅射沉积薄膜的源材料即为靶材。用靶材溅射沉积的薄膜致密度高，附着性好。20世纪90年代以来，微电子行业新器件和新材料发展迅速，电子、磁性、光学、光电和超导薄膜等已经广泛应用于高新技术和工业领域，促使溅射靶材市场规模日益扩大

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