真空溅射靶材

Ag及Ag合金靶材

       Ag靶材主要应用于光盘介质的反射膜；STN液晶显示装置或有机EL显示装置等的光反射性薄膜。在Ag合金中添加少量的In、Sn、Zn或Au、Pd、Pt，或根据情况添加少量的Cu，可将低溅射靶材电阻，提高靶材图案形成性、耐热性、反射率和耐硫化性等。

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随着电子信息产业的飞速发展，溅射靶材，薄膜科学应用日益广泛。溅射法是制备薄膜材料的主要技术之一，溅射沉积薄膜的源材料即为靶材。用靶材溅射沉积的薄膜致密度高，附着性好。20世纪90年代以来，真空溅射靶材，微电子行业新器件和新材料发展迅速，电子、磁性、光学、光电和超导薄膜等已经广泛应用于高新技术和工业领域，促使溅射靶材市场规模日益扩大

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