大型工业磨粉机

雷蒙磨的四种研磨特性

化学作用说

   这种说法认为：抛光是活性物质(如氧、硫、硬脂陵等)的化学作用出现化学变化的过程。当工件表面活性物质在化学作用下，磨粉机，很快就形成了·—层化合物薄膜，这层薄膜具有化学保护作用(表面薄膜一旦形成，很难再深化)，但能校软质磨料除掉。这结抛光加工创造了很好的条件。因此，这种说法则认为抛光过路是被抛光表面高凸部位形成的化合物薄膜不断披除掉又很快形成的过程。并认为被抛光表面没有受到任何切削破界作用。

   综上所述研磨和抛光过程不可能由一种说法能解释通。事实上，雷蒙磨研磨是磨粒对工件表面的切削、活性物质的化学作用及工件表面挤压变形等综合作用的结果。其每一作用的主次，则要根据加工性氏加工过程的进展阶段而有所不同。对于研磨，耐火材料磨粉机设备，特别是嵌砂研磨，它符台纯切削说法，并能正确地指导研磨的实际工作。而对于抛光，它符合化学作用说法和纯切削说法两者的综合作用，其中以化学作用为主要影响，其它象磨粒的切削、温升的变化民则促进了化学作用的加剧，起着辅助作用。

立式雷蒙磨磨粉机系统操作影响因素

（1） 出入磨风温受设备结构及密封元件性能的限制，立式磨粉机入口风温上限为 450℃，出磨风温上限为 110～120℃。物料中水份随出磨气体温度上升而降低。对于水泥原料，通常控制出磨风温 90～100℃ 之间，即可保证出料水份在 1%以下。在小规格磨机粉磨石膏时，立式磨粉机出磨风温有达到 140℃的实例。这是磨辊轴承采用稀油循环冷却系统。

（2） 喂料粒度分布及zui大粒径为建立稳定的磨床，立式磨粉机操作要求物料有稳定且较宽的粒度分布。

筛除细粉后的物料通常不宜用于立式磨粉机。美洲一台立式磨粉机曾因采用25mm 筛上料作喂入料而导致操作时机体剧烈振动。凡非公司也因喂入料储库偏折，造成来料波动，使磨体振动达 4mm/s 以上的实例。

喂料zui大粒径随磨辊增大而增大，大型工业磨粉机，一般可考虑为磨迹直径的 1/40，但也有因物料易磨而超过极限稳定操作的情形。

尽管雷蒙磨研磨工艺已广泛用予矿业工作中，并且获得了zui佳的工艺效果，可是人们对雷蒙磨研磨为什么能达到高精度这一实质问题的理论阐述，还远不象“切削原理”、  “密削原职”那样系统而完整，对研磨过程的本质认识，至今其说不一。兹简介如下：

纯切削说

   这种说法认为：雷蒙磨研磨和抛光同磨削一样，是一种纯磨削过程(或称为控磨过程)。zui终精度的获得是由很多微小的便磨机对工件表面不断切削，靠磨粒的尖劈、冲击、刮削、挤压作用，象“耘地”那样，形成无数条切痕重达、互相交错、互相抵消的加工面。它与磨削的差别只是磨料颗粒较纸切削运动不尽相同而已。

这种说法在实际工作中能够解释许多现象。也能指导工作。例如，雷蒙磨研磨过程中使用的磨科粒度一序比一序轧而获得的精度和表面光洁度则一序比一序高。

   但是这种说法解释不了用软磨料加工硬材林用大颗粒磨粒(如W 5白刚玉磨粒)却能抛光出镜面光治度的实例，因而这种说法显然不全面。

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