镀膜靶材

众诚达主要经营：溅射靶材、靶材、铬靶、硅靶、铜靶 、钨鉬、钛铝靶  。薄膜的纯度与靶材的纯度关 系极大，镀膜靶材，过去99.995 %（4 N5） 纯度的铜靶，或许能够满 足半导体厂商0.3 5pm 工艺的需求，但是却无法满 足 目前0.2 5um的工艺要求，靶， 而未米的 0.18um 工艺甚至0.13m工艺，所需要的靶材纯度将要求达 到5甚至 6N以上。铜与铝相比较，中国靶材，铜具有更高的抗电迁移能力及更 低的电阻率，能够满足！

产品详情

一、靶材应用：装饰镀膜行业

二、制造工艺：热等静压

最长可达2000mm，靶材绑定，宽度及厚度可定制

产品特点：

纯度：99.5%、99.8%、99.9%、99.95%

相对密度：>99.8%

晶粒尺寸：平均粒径<100微米

形状：圆形、方形

靶材的主要性能要求

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

   通常靶材为多晶结构，晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材，晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快；而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。

中国靶材|众诚达应用材料公司|靶由深圳市众诚达应用材料科技有限公司提供。中国靶材|众诚达应用材料公司|靶是深圳市众诚达应用材料科技有限公司（www.apgtarget.com）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取新的信息，联系人：涂先生。