等离子化学气相沉积设备厂家

化学气相沉积的特点有哪些？

? ?高温石英管反应器设计

? ?温度范围：室温到1100度

? ?多路气体准确控制

? ?标准气压计

? ?易于操作

? ?可配机械泵实现低压TCVD

? ?可用于制备金属氧化物、氮化物、碳化物、金属薄膜

? ?液体前驱体喷头

沈阳鹏程真空技术有限责任公司本着多年化学气相沉积行业经验，专注化学气相沉积研发定制与生产，先进的化学气相沉积生产设备和技术，建立了严格的产品生产体系，想要更多的了解，等离子化学气相沉积设备厂家，欢迎咨询图片上的热线电话！！！

PCVD与传统CVD技术的区别

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PCVD与传统CVD技术的区别在于等离子体含有大量的高能量电子，这些电子可以提供化学气相沉积过程中所需要的激发能，从而改变了反应体系的能量供给方式。由于等离子体中的电子温度高达10000K，电子与气相分子的碰撞可以促进反应气体分子的化学键断裂和重新组合，等离子化学气相沉积设备价格，生成活性更高的化学基团，同时整个反应体系却保持较低的温度。这一特点使得原来需要在高温下进行的CVD过程得以在低温下进行。

化学气相沉积技术在材料制备中的使用

化学气相沉积法生产晶体、晶体薄膜

化学气相沉积法不但可以对晶体或者晶体薄膜性能的改善有所帮助，而且也可以生产出很多别的手段无法制备出的一些晶体。化学气相沉积法常见的使用方式是在某个晶体衬底上生成新的外延单晶层，开始它是用于制备硅的，后来又制备出了外延化合物半导体层。它在金属单晶薄膜的制备上也比较常见（比如制备 W、Mo、Pt、Ir 等）以及个别的化合物单晶薄膜（例如铁酸镍薄膜、钇铁石榴石薄膜、钴铁氧体薄膜等）。

期望大家在选购化学气相沉积时多一份细心，等离子化学气相沉积设备哪家好，少一份浮躁，不要错过细节疑问。想要了解更多化学气相沉积的相关资讯，欢迎拨打图片上的热线电话！！！

等离子化学气相沉积设备-沈阳鹏程真空技术公司由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。沈阳鹏程真空技术有限责任公司为客户提供“电阻热蒸发镀膜，磁控溅射，激光脉冲沉积，电子束”等业务，公司拥有“鹏程真空”等品牌，专注于成型设备等行业。，在沈阳市沈河区凌云街35号的名声不错。欢迎来电垂询，联系人：董顺。