厂商 :沈阳鹏程真空技术有限责任公司
辽宁 沈阳- 主营产品:
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商品详细描述
双室磁控溅射系统
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设备简介
主要特点是设备体积小,真空磁控溅射镀膜设备公司,结构简单紧凑易于操作,对实验室供电要求低;该系列设备主要部件采用进口或者国内优的配置,从而提高设备的稳定性;另外自主开发的智能操作系统在设备的运行重复性及性方面得到更好地保障。 目前该系列有基本型、旗舰型、豪华型、尊享型4种不同配置可供选择,可以根据客户的不同需求进行配置,比较灵活;标配4只Φ2英寸永磁靶,4台500W直流溅射电源,主要用来开发纳米级单层及多层的金属导电膜、半导体膜以及绝缘膜等。
小型磁控溅射镀膜系统简介
小型磁控溅射镀膜系统适合于快速溅射镀膜科研、教学与小批量打样,真空磁控溅射镀膜设备哪家好,可快速、低成本的制备多种微纳米厚度的膜层。
具有一体化、占用空间小、灵活的特点,无需380V工业电,无需额外冷水机,真空磁控溅射镀膜设备价格,采用无油干泵分子泵组,真空磁控溅射镀膜设备,无需操心真空系统和操作间环境泵油污染。
保证设备具有优异的质量与性。触摸屏控制界面,带来简单、操作方便的体验。
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双靶磁控溅射镀膜系统
设备用途:
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。同时设备具有反溅射清洗功能,以提高膜的质量和牢固度。
设备组成
系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶(2个靶)、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。
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