平面细磨剂、精磨剂、精磨液厂家

产品简述
   细磨剂属于高抛光速率，利用分散均匀大粒径的胶体二氧化硅等粒子达到高速抛光的目的高纯度（含量小于50 ppb），有效减小对电子类产品的沾污等材料的胶体粒子，不会对加工件造成物理损伤，达到高平坦化加工.

特性参数
外观　　　　：乳白色稠状液体
比重　　　　：1.20 ± 0.02
固含量　　　　：40.0 ± 1.0 %
有效含量　　：> 40 %
pH值　　　　：8.0 ± 1.0
平均原生粒径：30 -100nm 

使用注意事项
由于产品在贮存一段时间后，会逐渐增稠甚至呈冻状，所以在使用时建议以水：溶液= 1：1的比例兑稀，并建议使用分散设备搅拌均匀（效果更好）后再添加。在添加时，还应该注意体系的粘度，避免由于基料粘度太低或剪切速率低而导致的重絮凝问题。

应用范围
广泛用于纳米级的化学机械抛光，如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、硬盘盘片、手机配件、电脑配件、显示屏、宝石等纳米级及亚纳米级抛光加工。