上海光敏印章

光敏技术指的是利用光敏材料的感光特性进行印章制作的方法。专用的光敏材料是一种超微泡材料，其表面的微孔孔径非常小，平均孔径小于30微米。本身具有储 油渗油及光闪熔特性。光敏材料在受到强光照射的时候，可以吸收光能并转换成热能，颜色越暗吸收的能量越多。曝光时，光敏材料表面见光部分瞬间吸收大量的光 能后，温度迅速上升并达到熔点，闪光结束后，表面熔体的温度迅速降低，形成一定厚度和强度的薄膜，

这层薄膜同时起到封孔闭孔的作用，并隔绝印油的渗透。这 就是光敏章成像的原理。利用光敏材料的这一特性，用激光打印机将章稿打印在具有透光特性的硫酸纸或激光胶片上，将其覆盖在光敏材料上后放在曝光机内曝光， 由于章稿本身具有黑度不能透光，因而章稿覆盖的光敏材料没有受到光照仍然可以储油渗油，而其他部分则由于受到光照发生凝固不能渗油，从而实现了印章的制 作。由于激光打印机的打印精度在1200DPI以上，加之光敏材料本身的超微孔结构，因此，光敏印章的精度比采用激光雕刻的印章或其它技术方式制作的印章 的盖印精度高出许多，是目前印章制作精度最高的一种印章。