厂商 :北京冠金利新材料科技
北京市 北京市- 主营产品:
- 锗靶
- 铬靶
- 铝靶
二氧化锆靶
化学符号:ZrO2
纯 度:99.99%
熔点:2700℃
密度:5.5g/cm?
规格:Φ30、10mm或颗粒
折射率:n=1.95~2.05
透明波段:0.25~9Ц
外观:白色或黑色
性能:放气量小,适于电子枪蒸发,膜层致密,牢固,抗化学腐蚀。用于多层膜。
价格:99.99% 1100元kg 99.99% 650元kg
最少起订量:1kg,量大优惠
供货能力:同批次,同材质,持续可靠供应;100kg/月
交货期:单片材料1周内发货,批量材料15天-20天内发货(工作日)
制作工艺:真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工
适用仪器:各类型号磁控溅射设备等
产品优点:1、质量可靠,价格优惠2、真空熔炼,设备提纯,纯度高,杂质少3、.轧制致密,氧化少,成型可塑4、相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高
产品附件:正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发票
包装方式:真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装
运输方式:国内快递承运(顺丰,申通,EMS,德邦)
常规靶材生产工艺为:铸锭(感应电溶解电子束熔炼法连续铸造)→→成型(锻造→热轧或
冷轧→拉伸)→→热处理(均质化,再烧结)→→精密机械加工(切削,铣,车,磨,刨)
→→与背板结合(软焊,扩散焊)→→检测(超声波,X光射线探伤)→→包装运输
薄膜材料是指通过对其进行热、电子枪蒸发或磁控溅射得到薄膜的一种功能材料。主要产品应用于半导体制造、磁记录、平面显示和太阳能等产业领域,以下产品我们能提供的常规规格为1mm-10mm颗粒,压片或者粉末,或者各种规格靶材。 |
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名称 |
化学符号 |
熔点/℃ |
蒸发温度/℃ |
蒸发方法 |
密度/(g/cm3) |
折射率 对应波长/μm |
透明区/μm |
膜结构 |
机械化学性 |
备注 |
ZrO2 |
氧化锆 |
2715 |
2700 |
电子枪 |
5.94 |
2.14 0.248 |
0.30~12,有报导0.25~7 |
P=0.67(30℃)P=0.82(250℃) |
极牢固 |
衬底加热。折射率提高,国内有折射率低于国外的报导;抹油不均匀性;溶于HF,蒸发时少有分解,空气中烘烤影响不大。用于镀制多层增透膜 |
2.11 0.4,250℃ |
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1.970 0.55,30℃ |