二氧化锆靶

厂商 :北京冠金利新材料科技

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  • 锗靶
  • 铬靶
  • 铝靶
联系电话 :13910408681
商品详细描述

二氧化锆靶

化学符号:ZrO2                      

纯 度:99.99%

熔点:2700℃                   

密度:5.5g/cm?

规格:Φ3010mm或颗粒        

折射率:n=1.95~2.05                       

透明波段:0.25~9Ц                   

外观:白色或黑色

性能:放气量小,适于电子枪蒸发,膜层致密,牢固,抗化学腐蚀。用于多层膜。

价格:99.99%  1100kg  99.99%  650kg 

最少起订量:1kg,量大优惠

供货能力:同批次,同材质,持续可靠供应;100kg/

交货期:单片材料1周内发货,批量材料15-20天内发货(工作日)

制作工艺:真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工

适用仪器:各类型号磁控溅射设备等

产品优点:1、质量可靠,价格优惠2、真空熔炼,设备提纯,纯度高,杂质少3.轧制致密,氧化少,成型可塑4、相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高

产品附件:正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发票

包装方式:真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装

运输方式:国内快递承运(顺丰,申通,EMS,德邦

常规靶材生产工艺为:铸锭(感应电溶解电子束熔炼法连续铸造)→→成型(锻造→热轧或

冷轧→拉伸)→→热处理(均质化,再烧结)→→精密机械加工(切削,铣,车,磨,刨)

→→与背板结合(软焊,扩散焊)→→检测(超声波,X光射线探伤)→→包装运输


薄膜材料是指通过对其进行热、电子枪蒸发或磁控溅射得到薄膜的一种功能材料。主要产品应用于半导体制造、磁记录、平面显示和太阳能等产业领域,以下产品我们能提供的常规规格为1mm-10mm颗粒,压片或者粉末,或者各种规格靶材。

名称

化学符号

熔点/℃

蒸发温度/℃

蒸发方法

密度/(g/cm3)

折射率  对应波长/μm

透明区/μm

膜结构

机械化学性

备注

ZrO2

氧化锆

2715

2700

电子枪

5.94

2.14       0.248

0.30~12,有报导0.25~7

P=0.67(30℃)P=0.82(250℃)

极牢固

衬底加热。折射率提高,国内有折射率低于国外的报导;抹油不均匀性;溶于HF,蒸发时少有分解,空气中烘烤影响不大。用于镀制多层增透膜

2.11       0.4,250

1.970      0.55,30

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