氧化钽靶

厂商 :北京冠金利新材料科技

北京市 北京市
  • 主营产品:
  • 锗靶
  • 铬靶
  • 铝靶
联系电话 :13910408681
商品详细描述

氧化钽靶

颜色:白色或灰色

密度:8.7g/cm3

熔点:1800

技术指标:纯度:99.99%4N

致密度:>95%

切面平整度 优

公差:±0.1mm

折射率:2.3

透明波段:0.35-9um

材质:冠金利-Ta2O5

品牌:冠金利-氧化钽

产地:北京市

最少起订量:1片,量大优惠

供货能力:同批次,同材质,持续可靠供应;100kg/

交货期:单片材料1周内发货,批量材料15-20天内发货(工作日)

制作工艺:真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工

适用仪器:各类型号磁控溅射设备等

产品用途:工业级镀膜,实验或研究级别用钽靶材,电子,光电,军用,装饰,功能薄膜等

产品优点:1、质量可靠,价格优惠2、真空熔炼,设备提纯,纯度高,杂质少3.轧制致密,氧化少,成型可塑4、相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高

产品附件:正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发票

包装方式:真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装

运输方式:国内快递承运(顺丰,申通,EMS,德邦

常规靶材生产工艺为:铸锭(感应电溶解电子束熔炼法连续铸造)→→成型(锻造→热轧或冷轧→拉伸)→→热处理(均质化,再烧结)→→精密机械加工(切削,铣,车,磨,刨)→→与背板结合(软焊,扩散焊)→→检测(超声波,X光射线探伤)→→包装运输


薄膜材料是指通过对其进行热、电子枪蒸发或磁控溅射得到薄膜的一种功能材料。主要产品应用于半导体制造、磁记录、平面显示和太阳能等产业领域,以下产品我们能提供的常规规格为1mm-10mm颗粒,压片或者粉末,或者各种规格靶材。

名称

化学符号

熔点/℃

蒸发温度/

蒸发方法

密度/g/cm3

折射率  对应波长/μm

透明区/μm

膜结构

机械化学性

备注

Ta2O5

氧化钽

1800

2100

电子束或阴极溅射

7.8

2.840     0.6 

0.35~10

无定形白色晶体

极牢,强碱不腐蚀

在氩气中溅射Ta,阳极氧化后,生成Ta2O5,损耗很小,在集成光学中制成光波导,SiO2组合反射镜,利用电子枪蒸发,用于镀制保护膜

2.2~2.4   0.50

2. 0        1.06

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