厂商 :北京冠金利新材料科技
北京市 北京市- 主营产品:
- 锗靶
- 铬靶
- 铝靶
氧化钽靶
颜色:白色或灰色
密度:8.7g/cm3
熔点:1800℃
技术指标:纯度:99.99%(4N)
致密度:>95%
切面平整度 优
公差:±0.1mm
折射率:2.3
透明波段:0.35-9um
材质:冠金利-Ta2O5
品牌:冠金利-氧化钽
产地:北京市
最少起订量:1片,量大优惠
供货能力:同批次,同材质,持续可靠供应;100kg/月
交货期:单片材料1周内发货,批量材料15天-20天内发货(工作日)
制作工艺:真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工
适用仪器:各类型号磁控溅射设备等
产品用途:工业级镀膜,实验或研究级别用钽靶材,电子,光电,军用,装饰,功能薄膜等
产品优点:1、质量可靠,价格优惠2、真空熔炼,设备提纯,纯度高,杂质少3、.轧制致密,氧化少,成型可塑4、相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高
产品附件:正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发票
包装方式:真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装
运输方式:国内快递承运(顺丰,申通,EMS,德邦)
常规靶材生产工艺为:铸锭(感应电溶解电子束熔炼法连续铸造)→→成型(锻造→热轧或冷轧→拉伸)→→热处理(均质化,再烧结)→→精密机械加工(切削,铣,车,磨,刨)→→与背板结合(软焊,扩散焊)→→检测(超声波,X光射线探伤)→→包装运输
薄膜材料是指通过对其进行热、电子枪蒸发或磁控溅射得到薄膜的一种功能材料。主要产品应用于半导体制造、磁记录、平面显示和太阳能等产业领域,以下产品我们能提供的常规规格为1mm-10mm颗粒,压片或者粉末,或者各种规格靶材。 |
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名称 |
化学符号 |
熔点/℃ |
蒸发温度/℃ |
蒸发方法 |
密度/(g/cm3) |
折射率 对应波长/μm |
透明区/μm |
膜结构 |
机械化学性 |
备注 |
Ta2O5 |
氧化钽 |
1800 |
2100 |
电子束或阴极溅射 |
7.8 |
2.840 0.6 |
0.35~10 |
无定形白色晶体 |
极牢,强碱不腐蚀 |
在氩气中溅射Ta,阳极氧化后,生成Ta2O5,损耗很小,在集成光学中制成光波导,SiO2组合反射镜,利用电子枪蒸发,用于镀制保护膜 |
2.2~2.4 0.50 |
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2. 0 1.06 |