钕Nd靶钐Sm靶镨Pr靶钷Pm靶

     主研发的真空溅射靶材、光学镀膜材料广泛应用于装饰镀膜、工具镀膜、光学镀膜及镀膜玻璃工业与平板显视行业。生产的溅射靶材成分设计合理、表面平整光滑，具有良好的导电性，溅射时工作电流稳定，高阻靶材的底板焊接牢固适用，采用该靶材制作的电阻器，具有阻值集中、稳定性好，有良好的耐热、耐磨和抗氧化性能，电阻温度系数小等特点。

其靶材的制备都是根据其材料特性来加工的：分热压烧结工艺法和真空熔铸工艺法，产品均具有纯度高，微观组织优异及利用率高等特点

一 高纯单质金属（纯度：3N-6N）

规格：粉末/颗粒/锭/丝/圆片/方形靶材（长度小于1000mm.宽度小于320mm,厚度大于1mm）/圆柱形靶材（直径小于400mm,厚度大于1mm）

金靶Au，银靶Ag，铝靶Ag，硼靶B，铋靶Bi，碳靶C，铬靶Cr，铜靶Cu，钴靶Co，Cd靶，铈靶Ce，镝靶Dy，铒靶Er，铕靶Eu，铁靶Fe，钆靶Gd，锗靶Ge，铪靶Hf，铟靶In，铱靶Ir，镧靶La，镥靶Lu，镁靶Mg，钼靶Mo，锰靶Mn，铌靶Nb，镍靶Ni，铅靶Pb，钯靶Pd，铂靶Pt，铼靶Re，铑靶Rh，钌靶Ru，锑靶Sb，钪靶Sc，硒靶Se，硅靶Si，钐靶Sm，锡靶Sn，钽靶Ta，铽靶Tb，碲靶Te，钛靶Ti，钒靶V，钇靶Y，镱靶Yb，锌靶Zn，锆靶Zr。