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用途 |
用水指标 |
参考标准 |
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单晶硅、多晶硅、太阳能电池、氧化铝坩埚、光伏玻璃等生产 |
电阻率15 ~18.25 MΩ.CM |
我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997 美国半导体工业用纯水指标 |
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单晶硅半导体集成电路块，显像管、玻壳、液晶显示器等制造工业 |
电阻率15 ~18.25 MΩ.CM |
美国半导体工业用纯水指标 我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997 |
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光学材料清洗用水、电子陶瓷行业用纯水、尖端磁性材料用纯水 |
电阻率10 ~17 MΩ.CM |
我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997 美国半导体工业用纯水指标 |
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蓄电池、锂电池、锌锰电池生产 |
电阻率5 ~10 MΩ.CM |
我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997 |
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有色金属、贵金属冶炼用水、纳米级新材料生产用水、航空新材料生产用水、ITO导电玻璃制造用水、电子级无尘布生产用水 |
电阻率15 ~18.25 MΩ.CM |
我国电子级水质技术指标，GB11446-1-1997 美国半导体工业用纯水指标 |
※预处理+反渗透+离子交换器（电阻率≥15MΩ.CM）
※预处理+二级反渗透+EDI（电阻率≥15MΩ.CM）
※ 预处理+二级反渗透+脱气膜+EDI +抛光混床（电阻率≥18.25MΩ.CM）
详细工艺需根据原水设计情况进行设计
纯水设备的主要特点
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▼采用进口反渗透膜，脱盐率高，使用寿命长，运行成本低廉，产水水质高而稳定； ▼在线水质监测控制，实时监测水质变化，保障水质安全； ▼全自动电控程序，还可选配触摸屏操作，使用方便，操作简单、安全； ▼切合当地水质的个性化设计，设想周到的堆叠式设计，占地面积小，全方位满足需求。 ▼运行费用及维修成本低，全自动运行，实现无人化管理操作。 |
