厂商 :北京冠金利新材料科技
北京市 北京市- 主营产品:
- 锗靶
- 铬靶
- 铝靶
直径60mm铜靶材 厚5mm铜靶材 直径50.8mm铜靶材 精车表面铜靶材 非平衡磁控溅射用铜靶材 非对称脉冲溅射用铜靶材 中频交流反应溅射用铜靶材 射频溅射用铜靶材 直流溅射用铜靶材 离子镀溅射用铜靶材 铜靶材绑定焊接 旋转铜靶材 平面铜靶材 多弧铜靶材金属铜靶材 磁控溅射铜靶材 科研用铜靶材 定做铜靶材 圆片圆形铜靶材 进口铜靶材 实验用铜靶材 高纯铜靶材 低公差铜靶材 高致密铜靶材 反应磁控溅射用铜靶材 离子束溅射用铜靶材
物理性质 颜色: 铜红色; 密度:8.96g/cm?;熔点:1084℃
技术指标 纯度:99.99%;相对致密度:>99%;切面平整度:3.2Ra
公差:±0.1mm;晶粒度:均匀
材质 冠金利-Cu
品牌 冠金利-铜
产地 北京市
产品规格 尺寸01:直径<360mm 厚度>1mm(圆片/圆台/圆棒)
尺寸02:长度<300mm宽度<300mm厚度>1mm 矩形/片材/台阶状(可拼接)
尺寸03:外直径<360mm内直径>1mm壁度>1mm长度>1mm(管材/圆环/旋转靶材)
尺寸04:根据用户需要进行定制,来样加工,来图加工
最少起订量 1片,量大优惠
供货能力 同批次,同材质,持续可靠供应;100kg/月
交货期 单片材料1周内发货,批量材料15天-20天内发货(工作日)
制作工艺 真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工
适用仪器 各类型号磁控溅射设备等
产品用途 工业级镀膜,实验或研究级别用铜靶材,电子,光电,装饰,功能薄膜等
产品优点 1、质量可靠,价格优惠
2、还原法制备,纯度高,杂质少
3、轧制致密,氧化少,成型可塑
4、相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高
产品附件 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单
包装方式 真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装
运输方式 国内快递承运(顺丰,申通,EMS,德邦)
北京冠金利新材料科技有限公司为您长期供应铜靶Cu:高纯金属,高纯靶材,以及靶的相关产品。铝靶Al,银靶Ag,金靶Au,钴靶Co,钼靶Mo,铬靶Cr,铜靶Cu,镍靶Ni,钛靶Ti,锌靶Zn,镁靶Mg,铌靶Nb,锡靶Sn,铅靶Pb,铟靶In,铁靶Fe,锆靶Zr,铂靶Pt,钽靶Ta,锗靶Ge,硅靶Si,铯靶Cs,铷靶Rb,钨靶W,锰靶Mn,铪靶Hf,钆靶Gd,钐靶Sm,镝靶Dy,铈靶Ce,钇靶Y,钒靶V,镧靶La,铼靶Re,钌靶Ru,钯靶Pd,铑靶Rh,铋靶Bi,钛铝Ti-Al,铝硅Al-Si,铝铜Al-Cu,铝钛Al-Ti,银铜Ag-Cu,铝镁Al-Mg,钴铁硼Co-Fe-B,铜铟镓Cu-In-Ga,铁锰Fe-Mn,铟锡In-Sn,钴铁Co-Fe,镍钴Ni-Co,镍铁Ni-Fe,镍铬Ni-Cr,镍锆Ni-Zr,镍铝Ni-Al,镍铜Ni-Cu,镍钒Ni-V,钨钛W-Ti,锌铝Zn-Al,铝钛硼Al-Ti-B,铝钪Al-Sc,钒铝铁V-Al-Fe,铜锡Cu-Sn,锆铝Zr-Al,钒铝V-Al,硼铁B-Fe等
陶瓷靶材:氮化硅靶Si3N4,氮化铝靶AIN,氮化硼靶BN,氮化铬靶材CrN,氮化锆靶ZrN,氮化钛靶TiN,碲化镉靶CdTe,二硅化钼靶MoSi2,二硫化钼MoS2,二硼化锆靶ZrB2,二硼化钛靶TiO2,二氧化锆靶ZrO2,二氧化硅靶SiO2,二氧化锰MnO2,二氧化铈靶CeO2,二氧化钛靶TiO2,二氧化锡靶SnO2,氟化钡靶BaF2,氟化钙靶CaF2,氟化铝靶AlF3,氟化镁靶MgF2,氟化铈靶CeF2,硫化镉靶CdS,硫化亚铜Cu2S,硫化锌靶ZnS,硼靶B,硼化铪靶HfB2,三氧化二铬靶Cr2O3,三氧化二锰Mn2O3,三氧化钨靶WO3,钛酸钡靶BaTiO3,钛酸镨靶PrTiO3,石墨靶C,碳化锆靶ZrC,碳化铬靶Cr3C2,碳化硅靶SiC,碳化铪靶HfC,碳化硼靶B4C,碳化钛靶TiC,碳化钨靶W2C,五氧化二铌靶Nb2O5,氧化铒靶Er2O3,氧化钴靶CoO,氧化铪靶HfO2,氧化镓靶Ca2O3,氧化钪靶Sc2O3,氧化铝靶Al2O3,氧化镁靶MgO,氧化镍靶NiO,氧化钕靶Nd2O3,氧化钽靶Ta2O5,氧化铁靶Fe2O3,氧化铜靶CuO,氧化锌靶ZnO,氧化钇靶Y2O3,氧化铟靶In2O3,ITO靶(In2O3+SnO2),AZO靶(ZnO+AL203),LGZO靶,氧化硅铪靶HfO2