双面研磨抛光机

产品型号：
WHZAY-160D 双面研磨抛光机

产品简介：
WHZAY-160D 双面研磨抛光机是一种高精度双面研磨和抛光设备. 它能同时对4片最大2" 的基片进行双面研磨和抛光, 并获得在直径2"区域内TTV 小于1um .所以它是一台在实验室研磨抛光Si, Ge 和氧化物单晶基片的理想工具。



带抛光垫的不锈钢下磨盘


带抛光垫的不锈钢下磨盘


固定不同尺寸的游行轮




技术参数：
1、研磨盘尺寸: 225(外径）x 94（内径）x 15（厚度）mm

2、上磨盘的重量及配重: 5.5kg (3kg 配重)

3、游行轮规格: z=54 m=1.5 dia.81mm (环氧)

4、游行轮最多使用数量: 4

5、最大加工基片尺寸: dia. 60mm

6、平面度和平行度: 0.001mm

7、研磨和抛光精度: +/-0.001mm

8、 表面质量: > grade 10

9、输入电源: 单相 AC 220v

10、电机: DC110V/600W/0~1500rpm 可调

产品规格：
外形尺寸: 615x375x494mm 净重: 80kg

可选配件：
一套游行轮有4个，不是标配件，但我司能提供。一个游行轮能固定基片的尺寸和数量如下:

一片直径 60 mm 或2" 基片
3 片直径 1" 基片
14 片10x10mm 基片
如需订购，请告知基片抛光后的尺寸和厚度