高纯锰靶材

厂商 :北京冠金利新材料科技

北京市 北京市
  • 主营产品:
  • 锗靶
  • 铬靶
  • 铝靶
联系电话 :13910408681
商品详细描述
非对称脉冲溅射用锰靶材
离子束溅射用锰靶材                       
反应磁控溅射用锰靶材
高致密高均匀锰靶材
精车表面锰靶材
锰靶材
直径50.8mm锰靶材
厚5mm锰靶材
直径60mm锰靶材
中频交流反应溅射用锰靶材            
射频溅射用锰靶材
直流溅射用锰靶材
锰靶材绑定焊接
旋转锰靶材                               

圆片圆形锰靶材
平面锰靶材
多弧锰靶材
进口锰靶材
锰靶材99.95%
磁控溅射锰靶材
科研用锰靶材
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金属锰靶材
非平衡磁控溅射用锰靶材                    
离子镀溅射用锰靶材
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低公差锰靶材                              

定做锰靶材
锰靶材                                    
锰靶材Mn target 金属靶材 溅射靶材
.     
物理性质
  颜色
黑色
  密度
7.43g/cm?
  熔点
1244℃
技术指标
  纯度
99.95%
  相对致密度
>99%
  切面平整度
3.2Ra
  公差
±0.1mm
  晶粒度
均匀
材质
冠金利Mn
品牌
冠金利-锰
产地
北京市
产品规格
  尺寸01:直径<360mm   厚度>1mm (圆片/圆台/圆棒)
  尺寸02:长度<300mm 宽度<300mm 厚度>1mm   矩形/片材/台阶状(可拼接)
  尺寸03:外直径<360mm 内直径>1mm 壁度>1mm 长度>1mm(管材/圆环/旋转靶材)
  尺寸04::根据用户需要进行定制,来样加工,来图加工
最少起订量
1片,量大优惠
供货能力
同批次,同材质,持续可靠供应;100kg/月min
交货期
单片材料1周内发货,批量材料15天-20天内发货(工作日)
制作工艺
真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工
适用仪器
各类型号磁控溅射设备等
产品用途
工业级镀膜,实验或研究级别用锰靶材,电子,光电,军用,装饰,功能薄膜等
产品优点
  质量可靠,价格优惠
  真空熔炼,提纯制备,纯度高,杂质少
  轧制致密,氧化少,成型可塑
  相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高
产品附件
正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发票
包装方式
真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装
运输方式
国内快递承运(顺丰,申通,EMS,德邦)
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