高纯铝靶材

厂商 :北京冠金利新材料科技

北京市 北京市
  • 主营产品:
  • 锗靶
  • 铬靶
  • 铝靶
联系电话 :13910408681
商品详细描述
直径60mm铝靶材                            
离子束溅射用铝靶材                        
反应磁控溅射用铝靶材
非平衡磁控溅射用铝靶材
直径50.8mm铝靶材
精车表面铝靶材
厚5mm铝靶材
高致密高均匀铝靶材
低公差铝靶材
非对称脉冲溅射用铝靶材             
铝靶材                                      
磁控溅射铝靶材
金属铝靶材                                
实验室用铝靶材
进口铝靶材
多弧铝靶材
铝靶材定做                                 
旋转铝靶材                                 
圆片圆形铝靶材                             
平面铝靶材
离子镀溅射用铝靶材
铝靶材绑定焊接
直流溅射用铝靶材                           
射频溅射用铝靶材                          
中频交流反应溅射用铝靶材                   
科研用铝靶材
铝靶材99.99%

 
物理性质
  颜色
银白色
  密度
2.7g/cm?
  熔点
660℃
技术指标
  纯度
99.99%
  相对致密度
>99%
  切面平整度
3.2Ra
  公差
±0.1mm
  晶粒度
均匀
材质
冠金利-Al
品牌
冠金利-铝
产地
北京市
产品规格
  尺寸01:直径<360mm   厚度>1mm (圆片/圆台/圆棒)
  尺寸02:长度<300mm 宽度<300mm 厚度>1mm   矩形/片材/台阶状(可拼接)
  尺寸03:外直径<360mm 内直径>1mm 壁度>1mm 长度>1mm(管材/圆环/旋转靶材)
  尺寸04::根据用户需要进行定制,来样加工,来图加工
最少起订量
1片,量大优惠
供货能力
同批次,同材质,持续可靠供应;100kg/月
交货期
单片材料1周内发货,批量材料15天-20天内发货(工作日)
制作工艺
真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工
适用仪器
各类型号磁控溅射设备等
产品用途
工业级镀膜,实验或研究级别用铝靶材,电子,光电,军用,装饰饰,功能薄膜等
产品优点
  质量可靠,价格优惠
  真空熔炼,提纯制备,纯度高,杂质少
  轧制致密,氧化少,成型可塑
  相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高
产品附件
正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发票
包装方式
真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装
运输方式
国内快递承运(顺丰,申通,EMS,德邦)
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