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- 高压水射流去毛刺机
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商品详细描述
产品名称：数控磁流变抛光机床
产品型号：MSF-6080
菲博士数控磁流变抛光液原理：磁流变液是由磁性颗粒、基液和稳定剂组成的悬浮液。磁流变效应，是磁流变液在不加磁场时是可流动的液体，而在强磁场的作用下，其流变特性发生急剧的转变，表现为类似固体的性质，撤掉磁场时又恢复其流动特性的现象。磁流变抛光技术，正是利用磁流变抛光液在梯度磁场中发生流变而形成的具有黏塑行为的柔性“小磨头”与工件之间具有快速的相对运动，使工件表面受到很大的剪切力，从而使工件表面材料被去除。
磁流变抛光（MRF）是电磁理论、流体力学、分析化学等应用于光学表面加工而形成的一项综合技术。磁流变液是一种智能材料，其在磁场的作用下，可在1ms的时间内实现固—液两相的可逆转换。我公司利用这个性质，在磁流变液中加入一定浓度的微细磨料后，就成为可以进行高精度光学研磨的磁流变抛光液。
（1）菲博士数控磁流变抛光加工的特点：
菲博士数控磁流变抛光的方法可以认为是磁流变液在磁场作用下，在抛光区范围内形成的一定硬度的“小磨头”来代替散粒磨料抛光过程中的刚性抛光盘。在施加外磁场的作用下，磁流变液变硬，其黏度变大，并且“小磨头”的形状和硬度可以由磁场实时控制，而影响抛光区域作用效果的其他因素都固定不变，这样既能通过控制抛光区的大小和形状，又能确保在一定磁场强度下抛光区的稳定性，这些优点是传统的刚性抛光盘无法比拟的。
菲博士数控磁流变抛光方法的特点如下：
① 适用于抛光任何几何形状的光学零件；
② 加工速度快，效率高；
③ 加工精度高，加工表面粗糙度可达纳米级；
④ 不存在工具磨损问题；
⑤ 抛光碎片及抛光热及时被带走，避免影响加工精度；
⑥ 不产生下表面破坏层；
⑦ 无需专用工具和特殊机构；
⑧ 易于实现微机数控。
机床介绍:
PHMRF-100P磁流变抛光机床简介
一?、设备名称：PHMRF-100P磁流变抛光机床
二、设备用途
本设备主要应用于高精度光学玻璃、石英玻璃、蓝宝石晶体材料，陶瓷材料，半导体晶片等硬脆性元件的精密研磨抛光。
三、设备简介
机床的环性非导磁研抛盘采用高密度树脂组成，具有运行平稳不变形、无冲击、噪音低的特点，环形研抛盘对称分布二到四轴工件夹持装置，Z轴进给方向采用独立伺服进给，精确控制每个抛光轴的抛光间隙。工件自转采用高速伺服驱动，研抛盘驱动采用高精度行星减速机驱动。
本机床的磁场发生装置采用高导磁材料设计。磁极各发生器设计成可拆分防结构，根据不同工件的研抛特点，可改变磁极的形状以适应工件抛光的工艺改变。通过调节磁场和发生器的电流从而控制磁流变液的剪切力。磁场发生器采用内置铜管水冷设计，可有效控制装置的升温引起磁场变化而影响磁流变液的抛光稳定性。
机床配有专用的磁流变液循环装置，引用回收装置将从抛光区域的磁流变液进行回收处理。能够始终保持磁流变也的成分均匀及温度稳定，从而保证磁流变抛光在一定的工况下，保持最佳的抛光效果。
磁流变液采用辉碟公司菲博士? PHMW-W01A型水基磁流变液及PHMW-OL01A油基磁流变抛光液，根据不同工件材质不同选用不同的磁流变液。
与传统的超精密加工相比，PHMRF-100P磁流变抛光机床能够获得质量较高的光学表面。能够获得比较复杂的表面形状，通过控制磁场发生器的电流来控制切削去除量的大小。不会存在刀具磨损，堵塞现象，在可控磁场的作用下，刀具形状误差及刀具运动的振动误差，摩擦误差等在磁流变抛光中对加工精度影响极小。
PHMRF-100P磁流变抛光机床技术参数
产品型号：MSF-6080
菲博士数控磁流变抛光液原理：磁流变液是由磁性颗粒、基液和稳定剂组成的悬浮液。磁流变效应，是磁流变液在不加磁场时是可流动的液体，而在强磁场的作用下，其流变特性发生急剧的转变，表现为类似固体的性质，撤掉磁场时又恢复其流动特性的现象。磁流变抛光技术，正是利用磁流变抛光液在梯度磁场中发生流变而形成的具有黏塑行为的柔性“小磨头”与工件之间具有快速的相对运动，使工件表面受到很大的剪切力，从而使工件表面材料被去除。
磁流变抛光（MRF）是电磁理论、流体力学、分析化学等应用于光学表面加工而形成的一项综合技术。磁流变液是一种智能材料，其在磁场的作用下，可在1ms的时间内实现固—液两相的可逆转换。我公司利用这个性质，在磁流变液中加入一定浓度的微细磨料后，就成为可以进行高精度光学研磨的磁流变抛光液。
（1）菲博士数控磁流变抛光加工的特点：
菲博士数控磁流变抛光的方法可以认为是磁流变液在磁场作用下，在抛光区范围内形成的一定硬度的“小磨头”来代替散粒磨料抛光过程中的刚性抛光盘。在施加外磁场的作用下，磁流变液变硬，其黏度变大，并且“小磨头”的形状和硬度可以由磁场实时控制，而影响抛光区域作用效果的其他因素都固定不变，这样既能通过控制抛光区的大小和形状，又能确保在一定磁场强度下抛光区的稳定性，这些优点是传统的刚性抛光盘无法比拟的。
菲博士数控磁流变抛光方法的特点如下：
① 适用于抛光任何几何形状的光学零件；
② 加工速度快，效率高；
③ 加工精度高，加工表面粗糙度可达纳米级；
④ 不存在工具磨损问题；
⑤ 抛光碎片及抛光热及时被带走，避免影响加工精度；
⑥ 不产生下表面破坏层；
⑦ 无需专用工具和特殊机构；
⑧ 易于实现微机数控。
机床介绍:
PHMRF-100P磁流变抛光机床简介
一?、设备名称：PHMRF-100P磁流变抛光机床
二、设备用途
本设备主要应用于高精度光学玻璃、石英玻璃、蓝宝石晶体材料，陶瓷材料，半导体晶片等硬脆性元件的精密研磨抛光。
三、设备简介
机床的环性非导磁研抛盘采用高密度树脂组成，具有运行平稳不变形、无冲击、噪音低的特点，环形研抛盘对称分布二到四轴工件夹持装置，Z轴进给方向采用独立伺服进给，精确控制每个抛光轴的抛光间隙。工件自转采用高速伺服驱动，研抛盘驱动采用高精度行星减速机驱动。
本机床的磁场发生装置采用高导磁材料设计。磁极各发生器设计成可拆分防结构，根据不同工件的研抛特点，可改变磁极的形状以适应工件抛光的工艺改变。通过调节磁场和发生器的电流从而控制磁流变液的剪切力。磁场发生器采用内置铜管水冷设计，可有效控制装置的升温引起磁场变化而影响磁流变液的抛光稳定性。
机床配有专用的磁流变液循环装置，引用回收装置将从抛光区域的磁流变液进行回收处理。能够始终保持磁流变也的成分均匀及温度稳定，从而保证磁流变抛光在一定的工况下，保持最佳的抛光效果。
磁流变液采用辉碟公司菲博士? PHMW-W01A型水基磁流变液及PHMW-OL01A油基磁流变抛光液，根据不同工件材质不同选用不同的磁流变液。
与传统的超精密加工相比，PHMRF-100P磁流变抛光机床能够获得质量较高的光学表面。能够获得比较复杂的表面形状，通过控制磁场发生器的电流来控制切削去除量的大小。不会存在刀具磨损，堵塞现象，在可控磁场的作用下，刀具形状误差及刀具运动的振动误差，摩擦误差等在磁流变抛光中对加工精度影响极小。
PHMRF-100P磁流变抛光机床技术参数
|
研抛盘材质 |
高密度树脂 |
研抛盘外径 |
600mm/800mm |
|
研抛盘形状 |
环形 |
研抛盘线速度 |
10m/min~100m/min |
|
磁极对数 |
2对/4对 |
磁极高度 |
50mm/100mm |
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励磁电压 |
0~24Vdc/0~24V脉冲 |
主轴驱动 |
交流伺服 |
|
工件主轴转速 |
0~5000RPM |
主轴数量 |
2轴/4轴 |
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Z轴行程 |
200mm/300mm |
Z轴驱动 |
交流伺服 |
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对刀方式 |
压力式对刀/磁致伸缩对刀 |
磁流变液基材 |
水基或油基PH值=6~8 |
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最大工件尺寸 |
150mm×150mm |
最大去除率 |
0.2μm/min |
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最小表面粗糙度 |
Ra0.06~Ra0.08μm |
工件装夹方式 |
夹具或真空 |
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