GST刻蚀锗锑碲化物ICP刻蚀

厂商 ：北京松信宏泽科技有限公司

北京
  • 主营产品：
  • 食品安全检测仪
  • 辐射剂量仪
  • 英国PPM甲醛检测仪
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商品详细描述
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GST刻蚀——锗锑碲化物ICP刻蚀

电感耦合等离子体源
  • ICP 65 可以处理最大2"的晶片
  • ICP 180可以处理最大100mm的晶片
  • ICP 380可以处理最大200mm的晶片
  • 各个系统都适用于处理小尺寸的晶片
  • 基于RIE的ICP刻蚀以及晶片电极可以对温度进行调节
  • 使用氯气工艺
  • GST（Ge2Sb2Te5）是一种相移记忆材料
 
结果：
  • 刻蚀速率：150nm/min
  • 光刻胶掩模刻蚀选择比：>2:1
  • 对SiO2刻蚀选择比：>3:1
  • 均匀性：<±5%（200mm晶片）
  • 侧面：各向异性
 
 
     GST深度为0.2µm侧壁为74°
     使用了大角度的光学掩模（PR）
 （污染物是在切割分析用样品时引入的）
 
 
 
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