刻蚀InSb刻蚀锑化铟

厂商 ：北京松信宏泽科技有限公司

北京
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  • 食品安全检测仪
  • 辐射剂量仪
  • 英国PPM甲醛检测仪
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商品详细描述

刻蚀InSb—刻蚀锑化铟

刻蚀InSb—刻蚀锑化铟 掺杂的InSb刻蚀（0.4 µm/ min）对SiO2的刻蚀选择比大于 5 : 1
使用PlasmaProTMSystem100 ICP180对InSb-InSbAs进行刻蚀的技术
  • 推荐刻蚀气体：HBr, Ar, H2, Cl2
  • 推荐等离子体清洁气体：O2, SF6
  • 最大晶片直径100mm
 
 
刻蚀速率
  > 500nm/min
均匀性
  < ± 5 % (晶片最大直径100mm, 7mm 剔除区)

 
 
  • 扫描电镜照片
典型的InSb/InSbAs结构刻蚀，氧化物作为掩模
insb etch insb etching
 
var TabbedPanels1 = new Spry.Widget.TabbedPanels("TabbedPanels1");
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