HTR-01 桌式4英寸快速退火炉（红外辐射加热）

HTR-01 桌式4英寸快速退火炉 HTR-01A快速退火炉系列采用红外辐射加热技术，可实现1-10片样品同时进行，可实现4寸晶圆片吋样品快速升温和降温，同时搭配超高精度温度控制系统，可达到极佳的温场均匀性，对材料的快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氮化(RTN)、快速热氧化(RTO)及金属合金化等研究和生产起到重要作用。 主要应用领域： 快速热处理(RTP)，快速退火(RTA)，快速热氧化(RTO)，快速热氮化(RTN);离子注入/接触退火; 金属合金; 热氧化处理; 化合物合金(砷化家、氮化物等);多晶硅退火; 太阳能电池片退火;高温退火; 高温扩散。 产品特点 ● 快速加热和降温: 最高可控升温速率可达50 ℃/s，特定条件下可以达到100 ℃/s。冷壁水冷设计能够达到较大的降温速率，特定条件下可达30 ℃/s。 ● 精确控温: 采用工业级温控器进行PID精确控温，目标温度与设定温度曲线一致性高，可实现室温至1200 ℃的温度精确控制。 ● 适应多种工艺环境: 满足多种工艺气氛下的热处理（氮气、氩气等）。同时，通过选配真空泵，可以在真空条件下进行退火，最高真空度可达10-5Pa。 ● 配备观察窗口: 通过观察窗口，可以实时观察热处理过程中的样品变化。同时，可以结合相关测试方法进行原位测试分析。 ● 超高安全系数: 采用炉壁超温报警系统和冷却水流量报警系统，全方位保障仪器使用安全。 ● 售后服务：，能快速反应客户售后需求。 最大样品尺寸 4英寸（直径20mm） 控温范围 RT~1200℃ 升温速率(max) 50℃/s 高温段降温速率（max） 600℃/min 温度均匀性 ≦1% 控温精度 ±0.1℃ 气体流量 标配1路，可扩展至多路 放样管径 Ф210mm*320mm 放样数量 4-10个 真空度 真空度可以达到10-5 控制方式 支持真空、氧化、还原、惰性气体等工艺气氛，也可设置通过软件控制真空及通气时间