小型溅射镀膜仪

实验室小型真空磁控离子溅射镀膜仪 小型溅射镀膜仪 小型溅射仪是一种实验室用仪器，主要用于制备各种薄膜。其工作原理基于溅射技术，在一个真空室内，利用高能粒子轰击靶材表面，使得靶材的原子或分子被喷射出来，并沉积在基底（通常为玻璃或硅片）上形成薄膜。 具体来说，溅射仪主要由以下几部分组成： 1.靶材：通常是一块高纯度金属或合金块。靶材的材料和形状会影响薄膜的性质和外观。 2.真空室：整个溅射过程需要在真空环境中进行，以避免空气中的杂质对过程的影响。真空室也是保护靶材和基底的重要环节。 3.沉积基底：薄膜形成的地方，基底的性质也会影响薄膜的性质。 4.喷射电极和电源：向靶材表面喷射高能粒子的电极和提供电源。 5.真空泵：用于将真空室内部的气体抽出以建立真空环境。 在实际操作中，首先将靶材放置于溅射室的喷射电极上，真空泵开始抽出真空室空气，以建立高真空环境。然后，加通电流到喷射电极，使得靶材表面发射出高价态离子，离子沉积到基底表面后形成所需的薄膜。整个过程中温度和基底电势等因素也需要精确控制以保证得到期望的薄膜性质。