厂商 :那诺-马斯特中国有限公司
上海市 上海市- 主营产品:
- ALD
- PECVD
- RIE
联系电话 :17317363700
商品详细描述
NSC-4000(M)磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达8"旋转平台,可支持4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
NSC-4000带有13”铝质腔体,4个2”的磁控管,DC直流和RF射频电源。 在选配方面,我们提供不锈钢腔体,500 l/s涡轮分子泵,额外的磁控管和衬底加热功能。
NSC-4000(M)磁控溅射系统产品特点:
- 不锈钢,铝质腔体
- 260或500 l/s的涡轮分子泵,串接机械泵或干泵
- 13.56MHz,300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源
- 晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率
- 带观察视窗的腔门易于上下载片
- 基于LabView软件的PC计算机控制
- 带密码保护功能的多级访问控制
-
完全的安全联锁功能
NSC-4000(M)选配项:
- 不锈钢腔体
- 热蒸镀能力
- RF、DC溅射
- RF或DC偏压(1000V)
- 样品台可加热到700°C
- 膜厚监测仪
- 基片的RF射频等离子清洗
-
预真空锁以及自动晶圆片上/下载片
NSC-4000(M)应用:
- 晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆
- 光学以及ITO涂覆
- 带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆
- 带RF射频等离子放电的反应溅射
相关产品推荐
- 薄膜沉积系统 NLD-3500(A)全自动原子层沉积设备 那诺-马斯特
- 离子源清洗 NIE-3500(M)离子束清洗系统 那诺-马斯特
- 离子源清洗 NIE-3500(A)全自动离子束清洗系统 那诺-马斯特
- 晶圆清洗机 LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统 那诺-马斯特 去胶清洗系统
- 晶圆清洗设备 LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统 那诺-马斯特
- 进口全自动清洗机 SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机 那诺-马斯特
- 硅片清洗机 SWC-3000兆声辅助光刻胶剥离系统 那诺-马斯特
- 晶圆清洗设备 SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机 那诺-马斯特
- 等离子清洗设备 NPC-3500(M)等离子去胶机(刻蚀机) 那诺-马斯特
- 等离子去胶机 NPC-4000(M)等离子去胶机(刻蚀机) 那诺-马斯特