厂商 :那诺-马斯特中国有限公司
上海市 上海市- 主营产品:
- ALD
- PECVD
- RIE
联系电话 :17317363700
商品详细描述
NEE-4000(A)全自动电子束蒸发系统概述:NANO-MASTER NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置,其中样品台位于主腔体内,二级腔体则用于安置电子束源。这种在两个腔体之间带有门阀的配置可以作为预真空锁,使得电子束源腔体保持真空的情况下,实现基片通过主腔体放入基片到样平台(或夹具)上或从中取出。在需要自动装/卸载基片时,他可以通过第三方的预真空锁来实现,这可以设置于立方体的左侧。通过PC计算机控制,系统可以提供多电子束源的共蒸发能力,以及对组分或组分梯度进行编程的能力。
NEE-4000(A)全自动电子束蒸发系统特点:
- 顺序蒸发或共蒸发
- 双电子束源
- 多凹槽电子枪
- 可编程电子束扫描
- 10KW开关电源
- 涡轮分子泵,极限真空5x10-7Torr
- 自动上下载片
- 材料和衬垫更换非常方便
- 晶振式膜厚监测仪
- 通过LabView软件实现PC计算机控制
- 菜单驱动,四级访问密码保护
-
完全的安全联锁
产品型号:
- NEE-3500:计算机全自动控制的紧凑型独立系统
- NEE-4000:计算机全自动控制的独立系统
相关产品推荐
- 薄膜沉积系统 NLD-3500(A)全自动原子层沉积设备 那诺-马斯特
- 离子源清洗 NIE-3500(M)离子束清洗系统 那诺-马斯特
- 离子源清洗 NIE-3500(A)全自动离子束清洗系统 那诺-马斯特
- 晶圆清洗机 LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统 那诺-马斯特 去胶清洗系统
- 晶圆清洗设备 LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统 那诺-马斯特
- 进口全自动清洗机 SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机 那诺-马斯特
- 硅片清洗机 SWC-3000兆声辅助光刻胶剥离系统 那诺-马斯特
- 晶圆清洗设备 SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机 那诺-马斯特
- 等离子清洗设备 NPC-3500(M)等离子去胶机(刻蚀机) 那诺-马斯特
- 等离子去胶机 NPC-4000(M)等离子去胶机(刻蚀机) 那诺-马斯特