陶瓷靶材

2019年ITO导电膜产品供不应求，随着市场需求的逐步扩大，及行业技术的逐渐发展，韩国企业陆续进入，包括韩国LG化学，SKC等名企业。具备一定技术实力的中国地区企业。大陆企业也纷纷进入这一行业。在靶材应用领域中，半导体芯片对靶材的金属材料纯度、内部微观结构等方面都设定了极其苛刻的标准，需要掌握生产过程中的关键技术并经过长期实践才能制成符合工艺要求的产品。因此，半导体芯片对靶材的要求是比较高的,一般要求靶材的纯度要在99.999%以上,价格也昂贵。现在发展成熟使用较多的ITO沉积工艺是磁控溅射法，即用高能粒子轰击靶材，使靶材中的原子溅射出来，底表面形成薄膜的方法。靶材的密实度也对镀膜过程及膜层的性能有着重要的影响。靶材的密实度不仅影响溅射时的沉积速率、溅射膜粒子的密度和放电现象等，还影响着溅射薄膜的电学和光学性能。靶材越密实，溅射膜粒子的密越低，放电现象越弱，而薄膜的性能也越好。