半导体HCl纯化仪CH-II1L

超纯酸制备系统 Acid Purification 满足ICP、痕量、超痕量分析用酸需求 1、 采用亚沸蒸馏模式，保持腔体内液体温度低于沸点温度，蒸发冷凝，从而制备高纯酸 2、 顶部驻酸，从源头上避免交叉污染 3、 底部硅胶片加热,PID温控数显，更人性化的结构设计，操作简单方便，可置于通风橱中工作并实现无人看管 4、 宝塔形冷凝，无需冷却水，冷却更迅速，产酸更快    5、 所有部件均采用特氟龙塑料，彻底杜绝腐蚀和二次污染的潜在问题 6、 可连续不间断地制备酸、碱溶剂及有机溶剂 7、不怕蒸干，具有过热保护功能 8、规格2000ml的酸纯化器可在12小时内提取约900ml的高纯酸 9、超低运行功耗，是经济、快速的制备高纯酸方法 参数如下 名称 型号 规格(ml) 材质 产酸率（ml/h） 功率（w) 电压 尺寸（外径*高)cm 酸纯化系统 CH-I 500 PFA、FEP、PTFE 35 350 220V、50Hz 20*54 CH-II 1000 50 20*56 CH-III 2000 70 22*60 CH-IV 4000 100 可定制 独特优势 1.大容量：腔体内一次可容纳4000ml用酸 2.可拆卸清洗：避免腔体内金属杂质含量沉积，使提取的酸更优 3.成本更低：相对于昂贵的进口酸及纯化仪器，更实惠 4.维修方便及时：24小时内解决问题且维修费用低 数据参考 优级纯 HF纯化后，经中国地质大学地质过程与矿产资源重点实验室ICP-MS检测出HF杂质的含量如下： 元素 测量浓度（ng/g=ppb） 元素 测量浓度（ng/g=ppb） Be <0.01 Ba <0.01 Mg <0.02 La <0.01 Sc <0.01 Ce <0.01 V <0.01 Pr <0.01 Cr <0.03 Nd <0.01 Mn <0.01 Eu <0.01 Co <0.01 Gd <0.01 Ni <0.01 Tb <0.01 Zn <0.02 Er <0.01 Ga <0.01 Tm <0.01 Rb <0.01 Yb <0.01 Sr <0.02 Lu <0.01 Zr <0.01 Hf <0.01 Cd <0.01 Pb <0.01 Sn <0.01 Th <0.01 Cs <0.01 U <0.01 温馨小提示 1.使用前，所有配件（控制盒、电源线、加热片等除外）需放入酸液中浸泡清洗，去除杂质 2. 建议“掐头去尾”，提取的酸更纯净（即：先提纯出来的1/4量的试剂和快结束的1/4量的试剂舍弃不用，确保得到更低本底的试剂） 3. 加酸前必须做好个人防护如：防溅眼镜、防酸手套等 4.若对酸要求更高，可增加提纯次数